[发明专利]大口径光学元件表面缺陷增长分析方法、系统、装置

权利要求书

1.一种大口径光学元件表面缺陷增长分析方法，其特征在于，该方法包括：

步骤S10，获取光学元件t时刻表面缺陷图像及缺陷信息Db和t+1时刻表面缺陷图像及缺陷信息Df；

步骤S20，选取光学元件t时刻的基准点O1和角度A1，利用模板匹配获取t+1时刻O1的匹配点O2和角度A2；

步骤S30，以匹配点O2为基准，将缺陷信息Db转换为转换缺陷信息Dbc；所述缺陷信息Db、所述转换缺陷信息Dbc包括缺陷外接矩形左上角坐标、缺陷外接矩形右下角坐标、缺陷等效长度、缺陷等效宽度；转换方法为：

其中，(O1.x,O1.y)为O1的坐标，(O2.x,O2.y)为O2的坐标，A为角度A1的矩阵，B为角度A2的矩阵，(LUi.x,LUi.y)为Db的缺陷外接矩形左上角坐标，(RBi.x,RBi.y)为Db的缺陷外接矩形右下角坐标，(LUci.x,LUci.y)为Dbc的缺陷外接矩形左上角坐标，(RBci.x,RBci.y)为Dbc的缺陷外接矩形右下角坐标；

步骤S40，将转换缺陷信息Dbc和缺陷信息Df进行匹配，若匹配结果大于设定阈值，则判定为同一缺陷，执行步骤S50；否则判定不是同一缺陷，令t＝t+1，执行步骤S10；

步骤S50，在S40判定为同一缺陷时，根据Dbc和Df中缺陷等效长度L的变化，获取光学元件的缺陷增长情况。

2.根据权利要求1所述的大口径光学元件表面缺陷增长分析方法，其特征在于，所述表面缺陷图像由成像装置获取的子孔径图像拼接获得。

3.根据权利要求1所述的大口径光学元件表面缺陷增长分析方法，其特征在于，“转换缺陷信息Dbc和缺陷信息Df进行匹配”，其方法为：获取Dbc任一缺陷的外接矩形Ri和Df任一缺陷外接矩形Rj，得到相交面积，将所述相交面积与Ri比较或将所述相交面积与Rj比较。

4.根据权利要求1所述的大口径光学元件表面缺陷增长分析方法，其特征在于，步骤S40所述设定阈值为0.5。

5.一种大口径光学元件表面缺陷增长分析系统，其特征在于，该系统包括获取模块、基准点匹配模块、转换对齐模块、缺陷匹配模块、输出模块；

所述的获取模块，配置为获取光学元件t时刻表面缺陷图像及缺陷信息Db和t+1时刻表面缺陷图像及缺陷信息Df；

所述的基准点匹配模块，配置为选取光学元件t时刻的基准点O1和角度A1，利用模板匹配获取t+1时刻O1的匹配点O2和角度A2；

所述的转换对齐模块，配置为以匹配点O2为基准，将缺陷信息Db转换为转换缺陷信息Dbc；所述缺陷信息Db、所述转换缺陷信息Dbc包括缺陷外接矩形左上角坐标、缺陷外接矩形右下角坐标、缺陷等效长度、缺陷等效宽度；转换方法为：

其中，(O1.x,O1.y)为O1的坐标，(O2.x,O2.y)为O2的坐标，A为角度A1的矩阵，B为角度A2的矩阵，(LUi.x,LUi.y)为Db的缺陷外接矩形左上角坐标，(RBi.x,RBi.y)为Db的缺陷外接矩形右下角坐标，(LUci.x,LUci.y)为Dbc的缺陷外接矩形左上角坐标，(RBci.x,RBci.y)为Dbc的缺陷外接矩形右下角坐标；

所述的缺陷匹配模块，配置为将转换缺陷信息Dbc和缺陷信息Df进行匹配，若匹配结果大于设定阈值，则判定为同一缺陷，执行输出模块；否则判定不是同一缺陷，令t＝t+1，执行获取模块；

所述的输出模块，配置为基于缺陷匹配模块判定为同一缺陷时，根据Dbc和Df中缺陷等效长度L的变化，获取光学元件的缺陷增长情况。

6.一种存储装置，其中存储有多条程序，其特征在于，所述程序应用由处理器加载并执行以实现权利要求1-4任一项所述的大口径光学元件表面缺陷增长分析方法。

7.一种处理装置，包括处理器、存储装置；处理器，适用于执行各条程序；存储装置，适用于存储多条程序；其特征在于，所述程序适用于由处理器加载并执行以实现权利要求1-4任一项所述的大口径光学元件表面缺陷增长分析方法。