[发明专利]用于光刻胶的热致酸生成剂在审

专利信息
申请号: 201910409869.4 申请日: 2013-10-30
公开(公告)号: CN110119067A 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: G·P·普罗科普维茨;G·珀勒斯;刘骢;C·吴;C-B·徐 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/038
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 胡嘉倩
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 热致酸生成剂 光刻胶 光刻胶组合物 光致酸生成剂 线宽粗糙度 酸不稳定 树脂 光刻 优选 改进
【权利要求书】:

1.一种光致抗蚀剂组合物,其包含:

(a)树脂;

(b)光致酸生成剂;

(c)热致酸生成剂;以及

(d)碱性组分,该碱性组分的含量相对于所述热致酸生成剂是当量过量的。

2.一种光致抗蚀剂组合物,其包含:

(a)树脂;

(b)光致酸生成剂;

(c)热致酸生成剂,在对所述光刻胶组合物的涂层进行热处理的过程中,所述热致酸生成剂能够产生pKa等于或小于2.0的酸;以及

(d)碱性组分。

3.如权利要求1或2所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述热致酸生成剂是磺酸盐。

4.如权利要求1-3中任一项所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述热致酸生成剂包含氟化的磺酸盐组分。

5.如权利要求1-4中任一项所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述热致酸生成剂产生pKa小于2的酸。

6.如权利要求1-5中任一项所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述热致酸生成剂不含芳族部分。

7.如权利要求1-5中任一项所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述热致酸生成剂的当量与源自所述碱性组分的碱的当量之比约为0.1至0.9。

8.如权利要求1-7中任一项所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述碱性组分是含胺的化合物。

9.如权利要求1-8中任一项所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述碱性组分是多胺化合物。

10.一种形成光刻胶立体图像的方法,其包括:

(a)将权利要求1-9中任一项所述的光刻胶组合物的涂层施涂到基材上;

(b)使得所述光刻胶组合物涂层对图案化的活化辐射曝光,并对曝光后的光刻胶层进行显影,以形成光刻胶立体图像。

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