[发明专利]一种面向光场图像的深度估计方法有效

专利信息
申请号: 201910401869.X 申请日: 2019-05-15
公开(公告)号: CN110120071B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 韩磊;徐梦溪;黄陈蓉;郑胜男;吴晓彬;夏明亮 申请(专利权)人: 南京工程学院
主分类号: G06T7/557 分类号: G06T7/557
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 王安琪
地址: 211167 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 面向 图像 深度 估计 方法
【权利要求书】:

1.一种面向光场图像的深度估计方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1)根据光场相机参数信息,将光场原始图像解码为4D光场数据,并提取中心子孔径图像其中(iC,jC)表示中心子孔径图像的视角坐标;

(2)由步骤(1)得到的4D光场数据,以视差Δd为步长,计算生成焦点堆栈图像序列其中,n表示深度估计设定的视差标签数,根据光场相机的视差范围参数[dmin,dmax],求得

(3)对中心子孔径图像上的每个位置坐标(k*,l*)处的像素p,以视差γ·Δd,γ∈{1,2,…,n}为横坐标,该视差对应的重聚焦图像上(k*,l*)处像素的灰度值为纵坐标,绘制像素p对应的聚焦曲线φp(γ·Δd);

(4)对中心子孔径图像上的每个位置坐标(k*,l*)处的像素p,检测步骤(3)得到的聚焦曲线φp(γ·Δd)的局部对称性,取最优局部对称中心的横坐标值作为像素p对应的视差估计值D1p,针对每个像素执行此处理后,得到视差图D1;

(5)对中心子孔径图像上的每个位置坐标(k*,l*)处的像素p,由步骤(1)得到的4D光场数据,分别计算生成关于p的水平、垂直方向的EPI图像

(6)对中心子孔径图像上的每个位置坐标(k*,l*)处的像素p,在步骤(5)得到的EPI图像上分别检测对应直线的斜率sH、sv,由此得到两个视差值,求两者均值作为p的估计视差D2p;对每个像素进行估计视差处理后得到视差图D2;

(7)对中心子孔径图像上的每个位置(k*,l*)处的像素p,由和D1绘制聚焦曲线片段再由和D2绘制聚焦曲线片段其中D1p、D2p分别表示视差图D1、D2上p点对应位置处的视差,记号[(a):(b):(c)]表示在a到c范围内以b为步长生成的等差数列,|w|为窗口大小;

(8)对中心子孔径图像上的每个位置坐标(k*,l*)处的像素p,在集合上计算聚焦曲线片段与聚焦曲线φp(γ·Δd)的匹配度同样,在集合上计算聚焦曲线片段与聚焦曲线φp(γ·Δd)的匹配度若则p对应的最终深度Dp赋值为D1p,否则,Dp赋值为D2p;求得每个像素的视差后,得到最终视差图D。

2.如权利要求1所述的面向光场图像的深度估计方法,其特征在于,步骤(1)中,4D光场记为L:(i,j,k,l)→L(i,j,k,l),其中,(i,j)表示微透镜图像的像素索引坐标,(k,l)表示微透镜中心的索引坐标,L(i,j,k,l)表示通过像素和微透镜中心的光线的辐射强度;提取中心子孔径图像的方法是抽取每个微透镜图像的中心像素,按微透镜位置索引排列得到二维图像,即

3.如权利要求1所述的面向光场图像的深度估计方法,其特征在于,步骤(2)中,生成焦点堆栈图像序列具体为:基于光场数字重聚焦技术,即把光场重新投影积分到新的像平面上,等效于所有子孔径图像的平移和叠加,计算公式如下:

其中,k'、l'分别表示重聚焦图像像素在水平、垂直方向的坐标;ni、nj分别表示微透镜所覆盖子图像在行列方向上的像素数;nk、nl分别表示微透镜阵列在水平、垂直方向上的微透镜个数;interpn( )表示常见的插值函数,返回在指定位置的插值,第1个参数是一个二维矩阵,第2参数是插入位置的水平坐标,第3个参数是插入位置的垂直坐标;β是比例因子;当k'∈[1:1:nk],l'∈[1:1:nl]取遍集合中每个整数值时,得到重聚焦图像当γ取遍集合{1,2,…,n}时,求得重聚焦图像序列

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京工程学院,未经南京工程学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910401869.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top