[发明专利]渐变色镀膜基板及其制备方法、镀膜治具

权利要求书

1.一种渐变色镀膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

调节待镀膜基板的倾斜角度，以使所述待镀膜基板与靶材的溅射方向相交形成锐角；及

对所述靶材进行轰击，以在所述待镀膜基板上形成镀膜层，得到渐变色镀膜基板。

2.根据权利要求1所述的渐变色镀膜基板的制备方法，其特征在于，所述靶材包括第一镀膜材料和第二镀膜材料，所述第一镀膜材料的折射率大于所述第二镀膜材料的折射率，所述对所述靶材进行轰击，以在所述待镀膜基板上形成镀膜层的步骤包括：

对所述第一镀膜材料进行轰击，以在所述待镀膜基板上形成第一膜层；

对所述第二镀膜材料进行轰击，以在所述第一膜层上形成第二膜层，得到所述渐变色镀膜基板。

3.根据权利要求2所述的渐变色镀膜基板的制备方法，其特征在于，所述对所述第一镀膜材料进行轰击，以在所述待镀膜基板上形成第一膜层的步骤中，溅射电流为30A～40A；

及/或，所述对所述第一镀膜材料进行轰击，以在所述待镀膜基板上形成第一膜层的步骤中，氧气流量为80sccm～110sccm。

4.根据权利要求2所述的渐变色镀膜基板的制备方法，其特征在于，所述对所述第二镀膜材料进行轰击，以在所述第一膜层上形成第二膜层的步骤中，溅射电流为15A～25A；及/或，

所述对所述第二镀膜材料进行轰击，以在所述第一膜层上形成第二膜层的步骤中，氧气流量为60sccm～90sccm，氩气流量为150sccm～300sccm。

5.根据权利要求2所述的渐变色镀膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一镀膜材料选自五氧化二铌、二氧化钛及氮化硅中的一种。

6.根据权利要求2所述的渐变色镀膜基板的制备方法，其特征在于，所述第二镀膜材料选自多晶硅、氧化铝、二氧化锆及氟化镁中的一种。

7.根据权利要求2所述的渐变色镀膜基板的制备方法，其特征在于，所述镀膜层包括m个所述第一膜层和n个所述第二膜层，m个所述第一膜层与n个所述第二膜层交替层叠，且3≤m+n≤8。

8.根据权利要求1所述的渐变色镀膜基板的制备方法，其特征在于，所述对所述靶材进行轰击，以在所述待镀膜基板上形成镀膜层的步骤之前，所述调节待镀膜基板的倾斜角度，以使所述待镀膜基板与靶材的溅射方向相交形成锐角的步骤之后，还包括：采用挡板遮挡所述待镀膜基板，以氩气流量为150sccm～300sccm，溅射功率为1000W～2000W，溅射电流为40A，轰击所述靶材10s～20s；再以氧气流量为80sccm～110sccm，进行预溅射5s～15s；然后去除所述挡板。

9.由权利要求1～8任一项所述的渐变色镀膜基板的制备方法制备得到的渐变色镀膜基板。

10.一种镀膜治具，其特征在于，包括载具，所述载具包括载具主体、装片板及调节件，所述装片板和所述调节件均活动地安装在所述载具主体上，所述装片板能够承载待镀膜基板，所述调节件能够调节所述装片板的倾斜角度，以调节所述待镀膜基板的倾斜角度。

11.根据权利要求10所述的镀膜治具，其特征在于，还包括支撑架，所述载具主体可拆卸地挂设在所述支撑架上。

12.根据权利要求11所述的镀膜治具，其特征在于，所述载具有多个，多个所述载具能够沿所述支撑架的边缘均匀排列。

13.根据权利要求10所述的镀膜治具，其特征在于，所述调节件为球形螺杆。