[发明专利]阵列曝光机的卡盘的修复方法、卡盘及阵列曝光机

说明书

本发明提供了一种阵列曝光机的卡盘的修复方法、卡盘及阵列曝光机。阵列曝光机的卡盘的修复方法包括以下步骤：S1、预先获取所述卡盘的目标区域处的当前的初始平坦度参数；S2、若所述当前平坦度参数不满足第一预设条件，则采用预设材料的笔对所述目标区域进行涂抹预设次数；S3、对涂抹后的所述目标区域进行打磨，直至所述目标区域的阻力小于第一阈值；S4、对经过打磨后的所述目标区域进行清洁；S5、对所述目标区域进行检测以获取所述目标区域的实测平坦度参数；S6、若所述实测平坦度参数满足第一预设条件则修复完成。本发明通过采用对应材料的笔对卡盘的目标区域进行涂布，从而完成对该目标区域的磨损的修复，无需更好新的卡盘，可以降低成本。

技术领域

本发明涉及阵列基板制作领域，具体涉及一种阵列曝光机的卡盘的修复方法、卡盘及阵列曝光。

背景技术

阵列曝光机是一种光学设备，光阻(一种感光材料，在UV光的照射下会发生化学反应)的盘体放置在曝光机的卡盘平台上，掩膜板放置在掩膜板平台上，位于卡盘平台上方，将照明系产生的UV光照射在掩膜板上，UV光透过掩膜板(未遮挡的部分)照射在卡盘平台上，使卡盘平台上的光阻发生化学反应，从而将掩膜板上的图案1：1转移在玻璃基板上。长期做动导致对应位置卡盘磨损凹陷，最终造成产品在点灯时因水平黑白带mura。

因此，现有技术存在缺陷，急需改进。

发明内容

本发明提供一种阵列曝光机的卡盘的修复方法、卡盘及阵列曝光，可以修复卡盘磨损，降低成本。

本发明提供一种阵列曝光机的卡盘的修复方法，包括以下步骤：

S1、预先获取所述卡盘的目标区域处的当前的初始平坦度参数；

S2、若所述当前平坦度参数不满足第一预设条件，则采用预设材料的笔对所述目标区域进行涂抹预设次数；

S3、对涂抹后的所述目标区域进行打磨，直至所述目标区域的阻力小于第一阈值；

S4、对经过打磨后的所述目标区域进行清洁；

S5、对所述目标区域进行检测以获取所述目标区域的实测平坦度参数；

S6、若所述实测平坦度参数满足第一预设条件则修复完成。

在本发明所述的一种阵列曝光机的卡盘的修复方法中，所述步骤S6还包括：若所述实测平坦度参数不满足第一预设条件，则转至所述步骤S2。

在本发明所述的一种阵列曝光机的卡盘的修复方法中，所述步骤S2中，采用DLC材料的笔对所述目标区域进行涂抹。

在本发明所述的一种阵列曝光机的卡盘的修复方法中，所述步骤S3中，采用滚石对所述目标区域进行打磨。

在本发明所述的一种阵列曝光机的卡盘的修复方法中，所述步骤S3中，采用压力传感器来安装到滚石的受推力端上以检测该滚石所受到的阻力值。

在本发明所述的一种阵列曝光机的卡盘的修复方法中，所述步骤S4中采用无机中性溶液对所述目标区域进行清洁。

在本发明所述的一种阵列曝光机的卡盘的修复方法中，所述步骤S5中，复机后，使用控片来量测所述目标区域的实测平坦度参数。

在本发明所述的一种阵列曝光机的卡盘的修复方法中，在所述步骤S1中，所述目标区域为所述卡盘上X＝±760处的区域。

一种卡盘，应用于阵列曝光机中，所述卡盘包括第一区域以及第二区域，所述第一区域设置有DLC材料沉积层以及DLC材料涂布层。

一种阵列曝光机，包括所述的卡盘。

本发明通过采用对应材料的笔对卡盘的目标区域进行涂布，从而完成对该目标区域的磨损的修复，无需更好新的卡盘，可以降低成本。