[发明专利]光学投影系统的矫正方法

权利要求书

1.一种光学投影系统的矫正方法，其特征在于，包括：

提供光学投影系统，所述光学投影系统包括光学透镜系统和位于所述光学透镜系统上的掩膜版，所述掩膜版的图形包括掩膜标记图形；

采用光学投影系统对所述掩膜版分别进行第一次曝光至第N次曝光，获得第一曝光标记图形至第N曝光标记图形，第i次曝光适于形成第i曝光标记图形，第一次曝光至第N次曝光的曝光条件各不相同，所述曝光条件包括曝光能量和焦深，N为大于等于2的整数，i为大于等于1且小于等于N的整数；

根据第一曝光标记图形的尺寸至第N曝光标记图形的尺寸、以及第一次曝光至第N次曝光的曝光条件，获取聚焦能量矩阵函数，所述聚焦能量矩阵函数为曝光标记图形的尺寸关于曝光能量和焦深的函数；

在所述聚焦能量矩阵函数中获取曝光能量极值；

获取在曝光能量极值条件下，曝光标记图形的尺寸随焦深变化的测试斜率；

根据所述测试斜率对所述光学透镜系统进行调整。

2.根据权利要求1所述的光学投影系统的矫正方法，其特征在于，还包括：

提供测试晶圆，所述测试晶圆包括若干个分立的第一区至第N区；将所述测试晶圆放置在所述光学透镜系统的底部；采用光学投影系统对所述掩膜版分别进行第一次曝光至第N次曝光，在测试晶圆表面投影形成第一曝光标记图形至第N曝光标记图形，第i曝光标记图形位于第i区。

3.根据权利要求1所述的光学投影系统的矫正方法，其特征在于，在曝光能量极值条件下，曝光标记图形的尺寸随焦深线性变化。

4.根据权利要求1所述的光学投影系统的矫正方法，其特征在于，还包括：

根据所述测试斜率对所述光学透镜系统进行调整后，重复进行第一次曝光至第N次曝光、获取聚焦能量矩阵函数、以及获取测试斜率的步骤，直至所述测试斜率在阈值范围内。

5.根据权利要求4所述的光学投影系统的矫正方法，其特征在于，重复进行第一次曝光至第N次曝光、获取聚焦能量矩阵函数、以及获取测试斜率的步骤，直至所述测试斜率为零。

6.根据权利要求1所述的光学投影系统的矫正方法，其特征在于，所述光学投影系统还包括：相差调整控制系统；所述光学透镜系统包括相差调整透镜；

根据所述测试斜率对所述光学透镜系统进行调整的方法包括：将所述测试斜率反馈至所述相差调整控制系统；所述相差调整控制系统根据测试斜率获取相差信息；所述相差调整控制系统根据相差信息输出调整信号；依据所述调整信号对所述光学透镜系统进行调整。

7.根据权利要求6所述的光学投影系统的矫正方法，其特征在于，所述相差信息的绝对值与所述测试斜率的绝对值呈正比例关系，且测试斜率的绝对值越大，所述相差信息的绝对值越大。

8.根据权利要求1所述的光学投影系统的矫正方法，其特征在于，所述光学投影系统还包括位于所述掩膜版上的光源。