[发明专利]一种四结太阳能电池及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201910361710.X 申请日: 2019-04-30
公开(公告)号: CN110085704A 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 李俊承;吴真龙;何胜;邢永禄;郭文辉 申请(专利权)人: 扬州乾照光电有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/0687
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 225101*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 太阳能电池 电池 键合处 光电转换效率 短波光谱 高能粒子 减少材料 欧姆接触 键合层 接触层 透光性 保证 短波 键合 失配 吸收 正向 制备 反射 制作 生长
【说明书】:

发明公开了一种四结太阳能电池及其制作方法,其中,四结太阳能电池中InGaN电池能够有效的吸收短波光谱能量,进而改善短波的高能粒子对太阳能电池造成影响,使得四结太阳能电池光电转换效率高;其次,GaInP/InGaAs/Ge三结电池为正向生长制备而成,进而减少材料失配造成的缺陷,保证该GaInP/InGaAs/Ge三结电池的可靠性高;以及,对InGaN电池和GaInP/InGaAs/Ge三结电池采用IZO键合层进行键合,进而保证键合处透光性高;此外,键合处采用ITO薄膜作为接触层,在提高欧姆接触的同时,减少对光的反射和吸收情况,保证四结太阳能电池的性能高。

技术领域

本发明涉及太阳能电池技术领域,更为具体地说,涉及一种四结太阳能电池及其制作方法。

背景技术

太阳能电池可将太阳能直接转换为电能,是一种最有效的清洁能源形式。III-V族化合物半导体太阳能电池在目前材料体系中转换效率最高,同时具有耐高温性能好、抗辐照能力强等优点,被公认为是新一代高性能长寿命空间主电源,其中GaInP/InGaAs/Ge晶格匹配结构的三结电池已在航天领域得到广泛应用。

对于目前应用最为广泛的正向生长的三结GaInP/InGaAs/Ge电池,通常使用传统的MOCVD(Metal-organic Chemical Vapor Deposition金属有机化合物化学气相沉淀)技术,在Ge底电池上面依次生长InGaAs/GaInP材料形成InGaAs中电池和GaInP顶电池,目前该类型电池技术上已经非常成熟,转换效率在29%~31%之间,已经接近理论极限。

但是,现有的三结GaInP/InGaAs/Ge太阳能电池,由于自身结构限制,能够利用的光谱依然有限,尤其是能量较高的短波波段,GaInP顶电池的吸收效率较低,进而对于短波的高能粒子不能够进行有效阻挡,使得空间应用环境存在高能带电粒子辐射,这些带电粒子进入太阳能电池使晶格原子发生位移,形成大量的空位、填隙原子和复合体等晶格缺陷。这些缺陷可成为载流子的复合中心,导致光生载流子寿命缩短,降低太阳能电池的光电转换效率,直接影响航天器的在轨工作寿命和可靠性

发明内容

有鉴于此,本发明提供了一种四结太阳能电池及其制作方法,有效解决现有技术存在的问题,四结太阳能电池中InGaN电池能够有效的吸收短波光谱能量,进而改善短波的高能粒子对太阳能电池造成影响,使得四结太阳能电池光电转换效率高;其次,GaInP/InGaAs/Ge三结电池为正向生长制备而成,进而减少材料失配造成的缺陷,保证该GaInP/InGaAs/Ge三结电池的可靠性高;以及,对InGaN电池和GaInP/InGaAs/Ge三结电池采用IZO键合层进行键合,进而保证键合处透光性高;此外,键合处采用ITO薄膜作为接触层,进而减少对光的反射和吸收情况,保证四结太阳能电池的性能高。

为实现上述目的,本发明提供的技术方案如下:

一种四结太阳能电池的制作方法,包括:

提供一独立电池及正向生长的GaInP/InGaAs/Ge三结电池,所述独立电池包括衬底和位于所述衬底上的InGaN电池;

在所述InGaN电池背离所述衬底一侧沉积第一ITO接触层,及在所述GaInP/InGaAs/Ge三结电池的GaInP顶电池一侧沉积第二ITO接触层;

在所述第一ITO接触层背离所述衬底一侧形成第一IZO键合层,及在所述第二ITO接触层背离所述GaInP/InGaAs/Ge三结电池一侧形成第二IZO键合层;

将所述第一IZO键合层和所述第二IZO键合层键合形成IZO键合层;

去除所述衬底;

在所述InGaN电池背离所述IZO键合层一侧形成正面电极结构,及在所述GaInP/InGaAs/Ge三结电池背离所述IZO键合层一侧形成背面电极结构。

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