[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示面板及电子装置有效

专利信息
申请号: 201910352708.6 申请日: 2019-04-29
公开(公告)号: CN110112142B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 张伟彬 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32;G09F9/30
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法 显示 面板 电子 装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,包括:

柔性衬底,具有平坦部以及从所述平坦部延伸凸起的岛状部;以及

阵列结构层,所述阵列结构层包括:

半导体层,设置于所述柔性衬底的所述平坦部上及所述岛状部的一侧;

第二绝缘层,设置于所述半导体层上;

栅极层,设置于所述第二绝缘层上;

第三绝缘层,设置于所述栅极层及所述第二绝缘层上;以及

源极漏极金属层,设置于所述第三绝缘层上,并填入所述第二绝缘层及所述第三绝缘层中形成的源极过孔和漏极过孔,通过所述源极过孔及所述漏极过孔与所述半导体层电连接,

其中所述柔性衬底的所述岛状部暴露于所述第三绝缘层,

其中所述岛状部的顶部高于所述第三绝缘层的上表面,

其中所述阵列结构层还包括源漏极走线,其设置在所述岛状部的顶部上,与所述岛状部的顶部相接触,

其中所述岛状部设置在每两个薄膜晶体管结构之间,用以使所述阵列基板可在任意位置进行弯折。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于:所述岛状部包括第一岛状部及第二岛状部,所述第一岛状部和所述第二岛状部相互间隔设置。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列结构层还包括:

第四绝缘层,设置于所述第三绝缘层上,所述第四绝缘层为有机层,其中所述柔性衬底的所述岛状部的顶部落在所述第四绝缘层中。

4.一种阵列基板的制造方法,其特征在于,包括:

提供一载板;以及

于所述载板上设置柔性衬底,所述柔性衬底具有平坦部及岛状部,所述岛状部从所述平坦部延伸凸起,

其中所述方法还包括于所述柔性衬底上设置阵列结构层的步骤,所述设置阵列结构层的步骤包括:

于所述柔性衬底的所述平坦部上及所述岛状部的一侧设置半导体层;

于所述半导体层上设置第二绝缘层;

于所述第二绝缘层上设置栅极层;

于所述栅极层及所述第二绝缘层上设置第三绝缘层;以及

对第所述二绝缘层及所述第三绝缘层蚀刻形成源极过孔及漏极过孔,于所述源极过孔及所述漏极过孔中填入源极漏极金属层,并在所述第三绝缘层上形成所述源极漏极金属层的源极和漏极,

其中所述柔性衬底的所述岛状部暴露于所述第三绝缘层,

其中所述岛状部的顶部高于所述第三绝缘层的上表面,

其中所述设置阵列结构层的步骤还包括:

于所述岛状部的顶部上设置源漏极走线,所述源漏极走线与所述岛状部的顶部相接触,

其中所述岛状部设置在每两个薄膜晶体管结构之间,用以使所述阵列基板可在任意位置进行弯折。

5.根据权利要求4所述的阵列基板的制造方法,其特征在于:所述岛状部包括第一岛状部及第二岛状部,所述第一岛状部和所述第二岛状部相互间隔设置。

6.根据权利要求4所述的阵列基板的制造方法,其特征在于,设置所述柔性衬底的步骤包括:

于所述载板上涂布有机材料;

采用具有不同透过率之透过区的掩模板对所述有机材料进行曝光;以及

对所述有机材料进行显影,以形成所述平坦部及所述岛状部。

7.根据权利要求4所述的阵列基板的制造方法,其特征在于,设置所述柔性衬底的步骤包括:

于所述载板上涂布有机材料;以及

采用激光对所述涂布的有机材料进行图案化,使其形成所述平坦部及所述岛状部。

8.根据权利要求4所述的阵列基板的制造方法,其特征在于,所述设置阵列结构层的步骤还包括:

于所述第三绝缘层上设置第四绝缘层,所述第四绝缘层为有机层,其中所述柔性衬底的所述岛状部的顶部落在所述第四绝缘层中。

9.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括权利要求1到3任一项所述阵列基板,所述显示面板还包括:

有机电致发光器件,设置在所述阵列基板上。

10.一种电子装置,包括如权利要求9所述的显示面板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910352708.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top