[发明专利]等离子沉积设备及其应用方法

权利要求书

1.一种等离子沉积设备，用于对靶棒进行沉积处理，其特征在于：包括支架、安装于所述支架上的传动组件、若干温控组件及等离子组件，所述传动组件与所述靶棒连接，所述温控组件安装于所述靶棒周侧，以控制所述靶棒温度，所述等离子组件一端靠近所述靶棒，以对所述靶棒进行沉积处理。

2.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：每一所述温控组件包括壳体及若干进气管，所述壳体两端设有开口，以容许所述靶棒穿过，所述进气管一端连通于所述壳体侧壁，另一端用于通入冷却气体。

3.根据权利要求2所述的等离子沉积设备，其特征在于：每一所述温控组件上的进气管数量根据所述靶棒的长度设计，所述进气管沿所述壳体长度方向依次排列。

4.根据权利要求2所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述温控组件之间的靶棒所在区域形成沉积区，所述进气管气体流量沿着远离所述沉积区的方向依次递减，以使每一所述温控组件内的气流向所述沉积区方向移动。

5.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述等离子沉积设备还包括固定架及多个承载支架，所述固定架沿长度方向设有导轨，所述承载支架可移动的安装于所述固定架的导轨上。

6.根据权利要求5所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述承载支架上分别安装有所述传动组件、温控组件及等离子组件，以使所述传动组件、温控组件及等离子组件能够沿所述固定架长度方向移动。

7.根据权利要求1所述的等离子沉积设备，其特征在于：所述等离子沉积设备还包括抽风组件，所述抽风组件与所述等离子组件分别安装于所述靶棒径向相对的两侧。

8.一种应用如权利要求1至7中任一项中所述等离子沉积设备的应用方法，其特征在于，所述的方法步骤如下：

S1，将靶棒固定于传动组件一端；

S2，将温控组件安装于所述靶棒两端，等离子组件及抽风组件分别安装于靶棒相对的两侧；

S3，在等离子组件中通入载气、原料及等离子气体；

S4，启动点火组件及传动组件；

S5，在温控组件中通入冷却气体，靶棒直径沉积到设定长度后停止点火组件及传动组件。

9.根据权利要求8所述的等离子沉积设备的应用方法，其特征在于，所述载气及原料包括氟化物，通过调节所述氟化物的通入量能够实时控制所述靶棒的掺氟深度。

10.根据权利要求8所述的等离子沉积设备的应用方法，其特征在于，所述冷却气体为氮气、压缩空气及氦气中的一种或多种。