[发明专利]一种单个粒子敏感气体传感器及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201910348839.7 申请日: 2019-04-28
公开(公告)号: CN110031512B 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 范祥祥;徐亚娟;贺无名;黄旭;曾梦佳 申请(专利权)人: 湖州师范学院
主分类号: G01N27/00 分类号: G01N27/00
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 瞿晓晶
地址: 313000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 单个 粒子 敏感 气体 传感器 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

发明涉及气体传感器技术领域,尤其涉及一种单个粒子敏感气体传感器及其制备方法和应用,本发明提供的一种单个粒子敏感气体传感器的制备方法,包括以下步骤:提供传感器衬底;采用单粒子捕获法在所述传感器衬底表面沉积单粒子,得到单个粒子敏感气体传感器前驱体;将所述单个粒子敏感气体传感器前驱体进行退火处理,得到单个粒子敏感气体传感器。本发明所述的制备方法成本低、操作简单;利用所述制备方法制备得到的单个粒子敏感气体传感器可以避免粒子聚集和粒子生长,从而充分发挥纳米粒子的结构优势,能够增大比表面积、提高灵敏度、有助于气体在表面吸附和解吸过程中的响应恢复速率;也可以解决粒子聚集和二次生长带来的不稳定问题。

技术领域

本发明涉及气体传感器技术领域,尤其涉及一种单个粒子敏感气体传感器及其制备方法和应用。

背景技术

由于纳米材料具有比表面积大、表面缺陷丰富等特点,被广泛应用于气体传感器器。通常半导体气体传感器往往需要在较高的温度下工作,但是持续的高温工作会使半导体材料的晶体结构遭到破坏,进而造成传感器性能不稳定的问题。

目前,紫外增强和抑制敏感粒子生长是改善上述问题的常用方式,其中紫外增强主要是采用紫外光激发敏感材料代替加热元件对材料的热激发的方式,该方式可以改善敏感材料的常温气敏特性和常温导电性;但是其响应恢复时间却高达几到几十分钟,灵敏度也大大降低。同时,抑制单个敏感粒子生长主要通过制备分级结构实现,但是从制备分级结构到传感器的制备还需要通过旋涂或者涂覆等操作才可以形成敏感材料薄膜层,该敏感材料薄膜层通常会由于粒子的聚集而形成致密膜,不利于传感器气敏性能的提高和稳定。

在上述基础上,现有技术通过制备单个纳米粒子构建气体传感器来解决单个敏感粒子生长的问题;在制备单个纳米粒子气体传感器的过程中主要是利用聚焦离子束沉积实现电极沉积控制,或者借助接触式原子力显微镜实现敏感材料控制,从而实现敏感材料与电极的接触,但所述方法所使用的设备比较昂贵,操作也比较复杂。

发明内容

本发明的目的在于提供一种单个粒子敏感气体传感器的制备方法,所述方法简单,成本低。

为了实现上述发明目的,本发明提供以下技术方案:

本发明提供了一种单个粒子敏感气体传感器的制备方法,包括以下步骤:

提供传感器衬底;

采用单粒子捕获法在所述传感器衬底的表面沉积单粒子,形成单个粒子敏感层,得到单个粒子敏感气体传感器前驱体;

将所述单个粒子敏感气体传感器前驱体进行退火处理,得到单个粒子敏感气体传感器。

优选的,所述传感器衬底的制备方法,包括以下步骤:

在传感器基底上依次沉积聚合物纤维牺牲层和电极材料层后,去除聚合物纤维牺牲层,得到传感器衬底。

优选的,所述聚合物纤维牺牲层的聚合物为聚乙烯吡咯烷酮和/或聚乙烯醇。

优选的,所述电极材料层包括打底金属层和导电金属层;

所述导电金属层的材料为金和/或铂;所述打底金属层的材料为钽;

所述导电金属层的厚度为50~250nm;所述打底金属层的厚度为5~25nm。

优选的,所述电极材料层包括两金属块区;

所述两金属块区的间距为10~500nm。

优选的,所述单粒子捕获法的过程为:将传感器衬底置于单粒子分散液中,施加电压,在传感器衬底上进行单粒子捕获;

所述单粒子分散液的单粒子为金属氧化物或金属硫化物;

所述单粒子分散液的浓度为0.0001~1g/mL。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖州师范学院,未经湖州师范学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910348839.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top