[发明专利]一种表面异物缺陷快速过滤方法及系统在审
| 申请号: | 201910346205.8 | 申请日: | 2019-04-26 |
| 公开(公告)号: | CN110108713A | 公开(公告)日: | 2019-08-09 |
| 发明(设计)人: | 陈武;宫强;张胜森;郑增强 | 申请(专利权)人: | 武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
| 代理公司: | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 赵伟 |
| 地址: | 430205 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 图像 表面异物 背光源组件 快速过滤 异物检测 比对 缺陷检测技术 检测结果 缺陷检测 缺陷信息 异物缺陷 清洁 异物 点亮 滤除 过滤 自动化 保留 | ||
本发明公开了一种表面异物缺陷快速过滤方法及系统,涉及自动化缺陷检测技术领域;该方法包括以下步骤:S1:获取点亮后的背光源组件的第一图像,对所述第一图像进行异物检测;S2:对所述背光源组件的表面异物进行清洁;S3:获取清洁后的背光源组件的第二图像,对所述第二图像进行缺陷检测;S4:将第一图像和第二图像的检测结果进行比对,保留同时存在于第一图像和第二图像上且位置相同的膜内异物缺陷信息,滤除表面异物缺陷信息;本发明通过对第一图像和第二图像的异物检测结果进行比对,能够准确区分表面异物和膜内异物,并快速准确的对表面异物进行过滤,从而节省了人工复判的时间,提高了AOI检测效率。
技术领域
本发明属于自动化缺陷检测技术领域,更具体地,涉及一种表面异物缺陷快速过滤方法及系统,主要用于基于AOI的背光源组件缺陷检测。
背景技术
使用自动光学检测(Automated Optical Inspection,AOI)对背光源组件(BackLight Unit,BLU)进行缺陷检测时,表面灰尘的去除和检出是一个非常重要的环节,直接影响到缺陷检测的准确性和效率;背光的异物类缺陷分为表面异物和膜内异物,受制于产线无绝对的无尘环境的影响,通常情况下,背光在流片过程中会不断落入灰尘,故表面异物在AOI检测环节无需检测出来,仅对表面异物进行清洁,然后取像检测,在背光打包的前一个环节进行最后的表面异物清洁即可。
图1所示是目前进行背光检测的流程:作业员首先将背光放置在治具中,清洁滚轮进行表面异物清洁;然后点亮背光进行取像检测,根据检测结果进行复判:若有缺陷则进行缺陷标记后传递给维修组;若无缺陷则将背光放置回产线继续进行下一个环节;当前背光检测过程中存在一个普遍的问题就是清洁滚轮的清洁效果不佳,有些特殊背光膜材上表面异物清洁率不到50%,在进行取像检测时,AOI会将表面异物和膜内异物都检出,而AOI无法通过一张图像区分出表面异物和膜内异物,故表面异物通常情况下也会被AOI检出,从而增加人员复判的时间,降低AOI检测效率以及产线的生成效率,从而影响产能。
随着BLU的发展趋势,未来对产能要求会越来越高,背光厂商为了保证产线的正常运行,对AOI检测时间有严格的要求,且要尽可能减少不必要的检测时间,因此必须需要寻求一种背光检测过程中的表面异物快速过滤的方法以提高生产效率,从而适应蓬勃发展的行业要求。
发明内容
针对现有技术的至少一个缺陷或改进需求,本发明提供了一种表面异物缺陷快速过滤方法及系统,根据表面异物在清洁滚轮作用后可移动的特性,分别在滚轮作用前后采集两幅图像,找出两幅图像上表面异物的坐标并进行比对,将两幅图像上相同位置的缺陷进行保留并输出,过滤不同位置的缺陷,以达到表面异物快速过滤的效果,其目的在于解决现有的背光检测过程易将表面异物检出,增加人员复判的时间,降低AOI检测效率以及产线的生产效率的问题。
为实现上述目的,按照本发明的一个方面,提供了一种表面异物缺陷快速过滤方法,包括以下步骤:
S1:获取点亮后的背光源组件的第一图像,对所述第一图像进行异物检测;
S2:对所述背光源组件的表面异物进行清洁;
S3:获取清洁后的背光源组件的第二图像,对所述第二图像进行缺陷检测;
S4:将第一图像和第二图像的检测结果进行比对,保留同时存在于第一图像和第二图像上且位置相同的膜内异物缺陷信息,滤除表面异物缺陷信息。
优选的,上述表面异物缺陷快速过滤方法,其第一图像的异物检测结果存储在第一缺陷列表中,所述第一缺陷列表包括第一图像中的异物缺陷的坐标信息;该异物缺陷包括表面异物和膜内异物;
所述第二图像的缺陷检测结果存储在第二缺陷列表中,所述第二缺陷列表包括第二图像中的全部缺陷的坐标信息;该全部缺陷包括异物缺陷和非异物缺陷。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司,未经武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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