[发明专利]一种显示面板外观缺陷检测方法在审
申请号: | 201910341237.9 | 申请日: | 2019-04-25 |
公开(公告)号: | CN110097544A | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 梁勇;郑增强;张胜森;吴川;周雄 | 申请(专利权)人: | 武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/10;G06T7/62 |
代理公司: | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 赵伟 |
地址: | 430205 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 显示面板 标注 语义分割 改进型 子图像 图像 外观缺陷检测 测试集 检测技术领域 训练集数据 把子图像 多边形框 分类网络 骨干网络 缺陷区域 输出目标 图像语义 图像增强 训练集 裁剪 学习 标示 验证 分割 预测 | ||
本发明属于显示面板检测技术领域,公开了一种显示面板外观缺陷检测方法,将显示面板图像增强处理裁剪为多个子图像;采用图像语义分割标注工具用多边形框对若干子图像进行标注,把子图像中的缺陷区域标示出来;由未经标注的子图像与标注后的子图像组成图像对;选取图像对中的部分作为训练集,余下的作为测试集;用训练集数据来训练改进型deeplab v3+深度学习语义分割模型,采用测试集来验证该模型;改进型deeplab v3+深度学习语义分割模型采用SENet分类网络作为骨干网络;采用训练好的改进型deeplab v3+深度学习语义分割模型对待测显示面板图像进行预测,输出目标缺陷的形状、面积。
技术领域
本发明属于显示面板的自动化缺陷检测技术领域,更具体地,涉及一种显示面板外观缺陷检测方法。
背景技术
随着电子产品的普及与快速更新换代,对LCD屏幕、OLED屏幕有着极大的产量需求。在屏幕生产过程中,由于原材料、生产工艺、意外等情况,屏幕上可能出现各种缺陷,例如破片、气泡、划伤、缺角、裂痕等,缺陷产品会影响其性能或降低用户体验,是不允许流入市场的,因此需要对生产的显示屏进行检测。
对显示屏的检测包括外观检测和背光检测,外观缺陷检测的现有方法包括:(1)传统Automatic Optic Inspection(自动光学检测,AOI)方法:先要提取ROI区域,再用传统方法算法检测,这种方法受背景、光照等因素影响较大,并且对不同缺陷采用不同的算法处理,检测多种缺陷时处理时间比较长。(2)深度学习的分类和检测方法:这些方法的优点是标注简单,分类只需要对整个图像进行标记,检测只需要对目标缺陷用矩形框标注,但也因为这个原因,检测出的目标面积和实际的目标面积之间有出入,无法用面积来卡控缺陷的输出。(3)深度学习的语义分割方法:检测出的目标是像素级别的,可以很好地从检测结果判断缺陷的形状,面积等特性,其缺点在于标注需要很大的工作量。
发明内容
针对现有技术的以上缺陷或改进需求,本发明提供了一种显示面板外观缺陷检测方法,其目的在于将深度学习语义分割的方法用于外观缺陷检测,有效地提升外观缺陷检测的准确度。
为实现上述目的,按照本发明的一个方面,提供了一种显示面板外观缺陷检测方法,包括如下步骤:
(1)将显示面板图像进行增强处理后作为检测图像,并将每个检测图像裁剪为多个子图像;
(2)采用图像语义分割标注工具用多边形框对若干子图像进行标注,把子图像中的缺陷区域标示出来;
(3)由未经标注的子图像与标注后的子图像组成图像对;选取图像对中的部分作为训练集,余下的作为测试集;
(4)用训练集数据来训练深度学习语义分割模型,采用测试集来验证该模型,直到达到预设的准确度;
(5)采用训练好的深度学习语义分割模型对待测显示面板图像进行预测,输出目标缺陷的形状、面积。
优选地,上述显示面板外观缺陷检测方法,其深度学习语义分割模型采用deeplabv3+深度学习语义分割模型,所述deeplab v3+深度学习语义分割模型采用SENet分类网络作为骨干网络。
优选地,上述显示面板外观缺陷检测方法,训练集或测试集之中的样本输入到deeplab v3+深度学习语义分割模型,先经过编译器处理,利用模型中的SENet分类网络提取原图的特征,利用模型中的空洞空间金字塔池化层增加特征图的感受野。
优选地,上述显示面板外观缺陷检测方法,SENet分类网络提取原图特征的方法包括:对原图特征经过卷积变换产生新的具有多个通道的特征信号,通过注意力模块来学习出每个通道的权重,使得有效的特征图谱权重大,无效或效果小的特征图谱权重小。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司,未经武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910341237.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。