[发明专利]波面干涉仪及其校正方法有效
| 申请号： | 201910338910.3 | 申请日： | 2019-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN109974577B | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 郭柏均 | 申请（专利权）人： | 业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B9/02 | 分类号： | G01B9/02;G01B11/24;G01M11/02 |
| 代理公司： | 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 | 代理人： | 杨冬梅;张行知 |
| 地址： | 611730 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 干涉仪 及其 校正 方法 | ||
1.一种波面干涉仪的校正方法，其特征在于，包括：
在被测物与光源之间设置一校正透镜，用于抵消入射光穿过被测物时引起的角度变化量；
在所述校正透镜上设置一校正记号，将所述校正记号设置在所述校正透镜远离所述被测物的表面，或将所述校正记号设置在所述校正透镜靠近所述被测物的表面；
测量撷取影像中所述校正记号的实际投影长度，将所述实际投影长度与理论投影长度对比，得到差值；
根据所述差值校正所述被测物与所述被测物的投影之间的实际比例；
其中，预设在撷取影像时受到反射光影响的部分影像所在区域的范围，将该范围内的区域设为无效区域。
2.根据权利要求1所述的波面干涉仪的校正方法，其特征在于，在所述校正透镜上设置一校正记号的步骤中，将所述校正记号的中心、校正透镜的中心与被测物的中心设置在同一直线上。
3.根据权利要求2所述的波面干涉仪的校正方法，其特征在于，在被测物与光源之间设置一校正透镜的步骤中，使所述校正透镜远离所述被测物的一面设置为平面；使所述校正透镜靠近所述被测物的一面设置为与所述被测物中覆盖在被测面上的表面平行的曲面。
4.根据权利要求3所述的波面干涉仪的校正方法，其特征在于，还包括：根据所述校正记号的实际长度、所述被测物与所述校正透镜的距离，以及所述入射光的角度，得到所述校正记号的理论投影长度。
5.根据权利要求1所述的波面干涉仪的校正方法，其特征在于，在所述校正透镜上设置一校正记号的步骤中，使所述校正记号的投影落在所述无效区域内。
6.根据权利要求1所述的波面干涉仪的校正方法，其特征在于，在所述校正透镜上设置一校正记号的步骤中，将所述校正记号设置为条状。
7.一种波面干涉仪，其特征在于，包括：
光源，产生入射光；
校正透镜，设置在所述光源和被测物之间，用于抵消入射光穿过所述被测物后引起的角度变化量，所述校正透镜上设置有校正记号，所述校正记号用于校正所述被测物与所述被测物的投影之间的实际比例，所述校正记号设置在所述校正透镜远离所述被测物的表面，或所述校正记号设置在所述校正透镜靠近所述被测物的表面；
其中，预设在撷取影像时受到反射光影响的部分影像所在区域的范围，将该范围内的区域设为无效区域。
8.根据权利要求7所述的波面干涉仪，其特征在于，所述校正记号的中心、校正透镜的中心与被测物的中心设置在同一直线上。
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