[发明专利]像素单元、图像传感器以及图像处理方法和存储介质有效
申请号: | 201910328825.9 | 申请日: | 2019-04-23 |
公开(公告)号: | CN110112155B | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 杨鑫 | 申请(专利权)人: | OPPO广东移动通信有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H04N5/374 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 王军红;张颖玲 |
地址: | 523860 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 像素 单元 图像传感器 以及 图像 处理 方法 存储 介质 | ||
本申请实施例公开了一种像素单元、图像传感器以及图像处理方法和存储介质,该像素单元包括:光电二极管PD阵列和读出电路,所述PD阵列与所述读出电路位于所述像素单元的同一层区域内,其中,所述PD阵列,用于通过所述PD阵列中的三个PD柱分别吸收入射光中三种波长对应的光信号,并将吸收到的光信号转换为电信号;其中,所述三种波长包括蓝光波长、绿光波长和红光波长,所述三个PD柱的直径各不相同且不同的PD柱吸收不同波长对应的光信号;所述读出电路,与所述PD阵列连接,用于读出所述电信号,将所述电信号转换为数字信号进行传输。
技术领域
本申请涉及图像传感器技术领域,尤其涉及一种像素单元、图像传感器以及图像处理方法和存储介质。
背景技术
图像传感器是一种将光学信号转换成电子信号的设备。图像传感器主要分为电荷耦合元件(Charge Coupled Device,CCD)图像传感器和金属氧化物半导体(ComplementaryMetal-Oxide Semiconductor,CMOS)图像传感器。随着CMOS工艺和技术的不断提升,CMOS图像传感器越来越多地应用于各种消费类电子产品中,比如数码相机、手机以及视频监控系统等。
在CMOS图像传感器(CMOS Image Sensor,CIS)的应用中,尤其是亚波长像素中,每个亚波长像素中至少包括光电二极管(Photo Diode,PD)所形成的PD层和读出电路所形成的金属布线(Metal wiring)层。随着像素尺寸的变小,目前最流行的技术是从传统的前感光式(Front Side Illumination,FSI)变为背部感光式(Back Side Illumination,BSI),将Metal wiring层放置于PD层的后面,这样虽然可以避免Metal wiring层对入射光的干扰,提高了感光度,但是仍然无法降低CIS的厚度。
发明内容
本申请的主要目的在于提出一种像素单元、图像传感器以及图像处理方法和存储介质,不仅提高了CIS的集成度,而且还降低了CIS的厚度。
为达到上述目的,本申请的技术方案是这样实现的:
第一方面,本申请实施例提供了一种像素单元,所述像素单元包括:PD阵列和读出电路,所述PD阵列与所述读出电路位于所述像素单元的同一层区域内,其中,
所述PD阵列,用于通过所述PD阵列中的三个PD柱分别吸收入射光中三种波长对应的光信号,并将吸收到的光信号转换为电信号;其中,所述三种波长包括蓝光波长、绿光波长和红光波长,所述三个PD柱的直径各不相同且不同的PD柱吸收不同波长对应的光信号;
所述读出电路,与所述PD阵列连接,用于读出所述电信号,将所述电信号转换为数字信号进行传输。
在上述方案中,所述三个PD柱以近似等边三角形排列方式设置。
在上述方案中,所述三个PD柱的直径度量级别为百纳米级。
在上述方案中,所述PD阵列包括第一PD柱、第二PD柱和第三PD柱;其中,第一PD柱的直径为60nm,第二PD柱的直径为90nm,第三PD柱的直径为120nm。
在上述方案中,所述PD阵列,具体用于根据三个PD柱的光学共振,通过每个PD柱分别吸收入射光三种波长中不同波长对应的光信号,并将吸收到的光信号转换为电信号。
在上述方案中,所述第一PD柱,具体用于根据三个PD柱的光学共振吸收入射光中蓝色波长对应的蓝光信号,并将吸收到的蓝光信号转换为第一电信号。
在上述方案中,所述第二PD柱,具体用于根据三个PD柱的光学共振吸收入射光中绿色波长对应的绿光信号,并将吸收到的绿光信号转换为第二电信号。
在上述方案中,所述第三PD柱,具体用于根据三个PD柱的光学共振吸收入射光中红色波长对应的红光信号,并将吸收到的红光信号转换为第三电信号。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的