[发明专利]光学防伪元件及其制作方法、光学防伪产品

权利要求书

1.一种用于制作光学防伪元件的方法，包括：

步骤S11，提供基材；

步骤S12，在所述基材的一个表面上形成光学微结构，所述光学微结构包括彼此不重叠的至少第一区域和第二区域，其中所述第一区域包括第三光栅微结构，所述第二区域包括第二光栅微结构，所述第三光栅微结构的深宽比大于所述第二光栅微结构；

步骤S13，在所述光学微结构表面沉积第一反射镀层；

步骤S14，去除所述第三光栅微结构上覆盖的所述第一反射镀层，而保留所述第二光栅微结构上覆盖的所述第一反射镀层；

步骤S15，在根据步骤S11至步骤S14形成的结构的表面涂布填充层，其中所述填充层的折射率与所述光学微结构的折射率满足预设条件以使所述填充层能够与所述第三光栅微结构形成第一光栅微结构；以及

步骤S16，在所述填充层上沉积不同于所述第一反射镀层的第二反射镀层。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基材、所述第一光栅微结构、所述第二光栅微结构、所述填充层是透明的或半透明的。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述填充层的折射率与所述光学微结构的折射率满足以下预设条件：所述填充层的折射率与所述光学微结构的折射率的差值的绝对值小于0.5。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第三光栅微结构的深宽比不小于0.4，所述第一光栅微结构和所述第二光栅微结构的深宽比小于0.4。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述第一光栅微结构和所述第二光栅微结构的深宽比为0.05至0.2。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，

所述第一光栅微结构和所述第二光栅微结构的结构特征尺寸的范围是100nm至100μm；和/或

所述第一光栅微结构和所述第二光栅微结构的深度范围是10nm至40μm。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，

所述第一光栅微结构和/或所述第二光栅微结构是以下中的一者或多者：亚波长光栅、全息光栅、闪耀光栅、球透镜、或者柱透镜；和/或

所述第一光栅微结构和/或所述第二光栅微结构是周期或非周期的。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一反射镀层和/或所述第二反射镀层为以下一者或多者：金属层、金属化合物层、高低折射率材料叠层、或法布里-珀罗干涉器。

9.一种光学防伪元件，包括：

基材；

位于所述基材上的表面浮雕结构层，所述表面浮雕结构层包括彼此不重叠的至少第一区域和第二区域，所述第一区域包括第一光栅微结构，所述第二区域包括第二光栅微结构，其中所述第一光栅微结构由第三光栅微结构和在所述第三光栅微结构的表面覆盖的填充层构成，所述第三光栅微结构的深宽比大于所述第二光栅微结构，所述填充层的折射率与所述第三光栅微结构的折射率满足预设条件以使所述填充层能够与所述第三光栅微结构形成第一光栅微结构，其中，所述第一光栅微结构上同形覆盖有第二反射镀层，所述第二光栅微结构上同形覆盖有不同于所述第二反射镀层的第一反射镀层，其中，所述填充层还覆盖于所述第一反射镀层之上，所述第二反射镀层同形覆盖于所述填充层之上。

10.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其中，所述基材、所述第一光栅微结构、所述第二光栅微结构、所述填充层是透明的或半透明的。

11.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其中，所述填充层的折射率与所述第三光栅微结构的折射率满足以下预设条件：所述填充层的折射率与所述第三光栅微结构的折射率的差值的绝对值小于0.5。