[发明专利]提高酸性蚀刻液再生回用率的系统及方法

权利要求书

1.一种提高酸性蚀刻液再生回用率的系统，其特征在于，包括：

蚀刻产线(1)，其对PCB板进行蚀刻，输出富铜酸性蚀刻废液和低ORP酸性蚀刻液；

电解装置(2)，其接收所述蚀刻产线(1)输出的富铜酸性蚀刻废液并进行电解，输出贫铜电解清液、铜以及氯气；

添加装置(3)，其用于提供添加剂；

再生液调配装置(4)，其接收所述蚀刻产线(1)输出的低ORP酸性蚀刻液、所述电解装置(2)输出的贫铜电解清液以及所述添加装置(3)提供的添加剂并进行混合，输出再生酸性蚀刻液；以及

再生液ORP提升装置(5)，其包括动力波管(51)、罐体(52)以及逆流喷射件(53)；所述动力波管(51)的下端与所述罐体(52)连通，其上端与所述电解装置(2)连通；所述动力波管(51)内设置有气液混合区(511)，所述逆流喷射件(53)设于所述动力波管(51)，并位于所述气液混合区(511)的下方，所述逆流喷射件(53)与所述再生液调配装置(4)连通；所述罐体(52)的下端与所述蚀刻产线(1)连通；所述逆流喷射件(53)逆流喷射所述再生酸性蚀刻液至所述气液混合区(511)，所述氯气经过所述动力波管(51)的上端进入到所述气液混合区(511)，所述再生酸性蚀刻液与所述氯气碰撞形成雾化泡沫，并形成高ORP酸性蚀刻再生液，所述高ORP酸性蚀刻再生液传输至所述蚀刻产线(1)。

2.根据权利要求1所述的提高酸性蚀刻液再生回用率的系统，其特征在于，所述再生液ORP提升装置(5)的数量为两个；其一所述动力波管(51)的上端与所述电解装置(2)连通，另一所述逆流喷射件(53)与所述再生液调配装置(4)连通，其一所述罐体(52)的上端与另一所述动力波管(51)的上端连通，另一所述罐体(52)的下端与其一所述逆流喷射件(53)连通，其一所述罐体(52)的下端与所述蚀刻产线(1)连通。

3.根据权利要求1所述的提高酸性蚀刻液再生回用率的系统，其特征在于，所述罐体(52)内还设置有除雾层(521)以及氧化液；所述除雾层(521)位于所述动力波管(51)与所述罐体(52)连通位置的上方；所述氧化液位于所述动力波管(51)与所述罐体(52)连通位置的下方。

4.根据权利要求3所述的提高酸性蚀刻液再生回用率的系统，其特征在于，其还包括废气处理装置(6)；所述废气处理装置(6)包括净化装置(61)以及排气装置(62)；所述净化装置(61)与所述所述罐体(52)的上端连通，所述排气装置(62)与所述净化装置(61)连通。

5.根据权利要求4所述的提高酸性蚀刻液再生回用率的系统，其特征在于，所述净化装置(61)包括净化管(611)、净化罐(612)以及循环件(613)；所述净化罐(612)内设置有净化层(6121)以及碱液，所述净化层(6121)位于所述碱液的上方；所述净化管(611)的一端与所述净化罐(612)连通，且该连通位置位于所述净化层(6121)以及碱液之间；所述净化管(611)的另一端与所述罐体(52)的上端连通；所述净化罐(612)的下端通过循环件(613)与所述净化管(611)连通；所述净化罐(612)的上端与所述排气装置(62)连通。

6.根据权利要求1所述的提高酸性蚀刻液再生回用率的系统，其特征在于，所述电解装置(2)包括隔膜电解槽(21)、过滤件(22)、电清液收集存储罐(23)以及氯气抽出件；所述隔膜电解槽(21)具有槽体(211)、阳极部(212)以及阴极部(213)；所述氯气抽出件分别与所述阳极部(212)以及动力波管(51)的上端连通；所述槽体(211)通过所述过滤件(22)与所述电清液收集存储罐(23)连通，所述电清液收集存储罐(23)用于存储贫铜电解清液。