[发明专利]一种可重复用于高分子薄膜激光标记的激光敏感性无机衬底的制备方法

权利要求书

1.一种可重复用于高分子薄膜激光标记的激光敏感性无机衬底的制备方法，其特征在于：所述制备方法具体步骤如下：

（1）将高分子粘结剂按比例配置于溶剂中，在50℃-80℃条件下超声1-2小时，制备成高分子粘结剂体系溶液；

（2）将激光敏感无机颗粒与高分子粘结剂体系溶液按比例配制成混合液，在40℃-60℃条件下超声1小时，然后按比例加入偶联剂并搅拌1-3小时，在60℃-70℃真空烘箱中将溶剂完全蒸发，得到高分子粘结剂包覆的激光敏感无机颗粒；

（3）将高分子粘结剂包覆的激光敏感无机颗粒放置于粉末压片机中，在室温、10-30MPa压力条件下，压制成片；

（4）在氮气气氛条件下，将压制成片的高分子粘结剂包覆激光敏感无机颗粒在400℃-1200℃下置于马弗炉中高温烧结处理1-12小时，去除高分子粘结剂组分，将激光敏感性无机颗粒烧结致密，得到激光敏感性无机衬底；

其中，原料组分按质量份数计，为：

高分子粘结剂 1-2份，

溶剂 15-20份，

激光敏感无机颗粒 50份，

偶联剂 0.5-2份。

2.如权利要求1所述可重复用于高分子薄膜激光标记的激光敏感性无机衬底的制备方法，其特征在于：所述高分子粘结剂为聚乙烯醇（PVA）、水性聚氨酯（PU）或聚苯乙烯（PS）高分子粘结剂。

3.如权利要求1所述可重复用于高分子薄膜激光标记的激光敏感性无机衬底的制备方法，其特征在于：所述溶剂为蒸馏水、苯、甲苯、二甲苯、四氢呋喃、丙酮、乙酸乙酯或石油醚。

4.如权利要求1所述可重复用于高分子薄膜激光标记的激光敏感性无机衬底的制备方法，其特征在于：所述激光敏感无机颗粒为三氧化二铋（Bi₂O₃）、三氧化二锑（Sb₂O₃）或二氧化钛（TiO₂）。

5.如权利要求1所述可重复用于高分子薄膜激光标记的激光敏感性无机衬底的制备方法，其特征在于：所述偶联剂为硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂、有机铬络合物或铝酸酯偶联剂中的任一种。

6.一种如权利要求1~5任一项所述可重复用于高分子薄膜激光标记的激光敏感性无机衬底的应用，其特征在于：所述激光敏感性无机衬底在激光辐照条件下，用于对高分子薄膜产品的识别、标记以及修饰。

7.如权利要求6所述可重复用于高分子薄膜激光标记的激光敏感性无机衬底的应用，其特征在于：所述激光为钇铝石榴石晶体脉冲激光，激光功率设定为25 W、35 W或45 W，脉冲激光波长为：1064 nm。

8.如权利要求6所述可重复用于高分子薄膜激光标记的激光敏感性无机衬底的应用，其特征在于：所述高分子薄膜为聚乙烯（PE）或聚丙烯（PP）。