[发明专利]制备隧穿氧钝化接触结构的快速退火方法有效
| 申请号： | 201910311808.4 | 申请日： | 2019-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN110165017B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 廖明墩;叶继春;曾俞衡;闫宝杰;杨清;张志;郭雪琪;黄玉清;王志学 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18 |
| 代理公司： | 宁波甬致专利代理有限公司 33228 | 代理人： | 周民乐 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 隧穿氧 钝化 接触 结构 快速 退火 方法 | ||
1.制备隧穿氧钝化接触结构的快速退火方法，其特征在于，步骤包括：
（1）预热：将待退火样品在工艺气体下，升温到150-250℃，保温1-2min；
（2）释氢：然后升温到300-600℃，保温3-10min；
（3）晶化：再升温到780-1100℃，并保温1-15 min；
（4）冷却：2-5分钟降温至600℃以下；
其中，所述步骤（2）中升温过程为阶梯式升温，所述阶梯式升温为每升高50-100℃，保持温度30-60s。
2.如权利要求1所述的制备隧穿氧钝化接触结构的快速退火方法，其特征在于，所述步骤（1）预热过程中升温速率10~20℃/s。
3.如权利要求1所述的制备隧穿氧钝化接触结构的快速退火方法，其特征在于，所述步骤（2）中升温速率为20-40℃/s。
4.如权利要求1所述的制备隧穿氧钝化接触结构的快速退火方法，其特征在于，所述步骤（3）中升温速率为5-30℃/s。
5.如权利要求1所述的制备隧穿氧钝化接触结构的快速退火方法，其特征在于，所述步骤（3）为变速率升温，所述变速率升温为先以15-30℃/s升温到600-780℃，再以5-15℃/s升温至780-1100℃。
6.如权利要求1所述的制备隧穿氧钝化接触结构的快速退火方法，其特征在于，所述工艺气体为氮气、氩气、氢气、水汽及以上任意混合气体。
7.如权利要求1所述的制备隧穿氧钝化接触结构的快速退火方法，其特征在于，快速晶化处理工艺主体设备包括放置待退火样品的石英腔，设置于所述石英腔外侧壁上的卤钨灯，所述石英腔上设置有供工艺气体进入的工艺气体进气通道和供工艺尾气排出的工艺尾气出气通道；石英腔两侧设置有水冷和/或风冷装置。
8.如权利要求1所述的制备隧穿氧钝化接触结构的快速退火方法，其特征在于，所述隧穿氧钝化接触结构由晶体硅衬底上的超薄氧化硅层和掺杂多晶硅薄膜组成。
9.如权利要求8所述的制备隧穿氧钝化接触结构的快速退火方法，其特征在于，所述掺杂多晶硅薄膜的导电类型为n型或p型。
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