[发明专利]一种有机电致发光显示面板、其制作方法及显示装置有效

专利信息
申请号: 201910311622.9 申请日: 2019-04-18
公开(公告)号: CN109860441B 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 侯文军 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/00;H01L27/32
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 有机 电致发光 显示 面板 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种有机电致发光显示面板的制作方法,其特征在于,包括:

在衬底基板上形成具有多个凹槽的像素界定层,并将所述像素界定层中的多个所述凹槽划分为至少三个凹槽组;

采用以下成膜工艺,在每一个所述凹槽组中的各凹槽中形成相同颜色的有机发光薄膜:

采用喷墨打印工艺,在所述凹槽组中的各所述凹槽内滴入相同颜色的墨滴,并在本次喷墨打印工艺之前已形成有机发光薄膜的所述凹槽内滴入第一保护溶剂;

对喷墨打印工艺后的所述衬底基板进行干燥成膜处理,以在该凹槽组中的各所述凹槽中形成相同颜色的有机发光薄膜,并挥发所述第一保护溶剂;

所述第一保护溶剂为对应于有机发光薄膜的不良溶剂。

2.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,在同一次所述成膜工艺中,所述墨滴与所述第一保护溶剂的沸点之差小于设定值。

3.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一保护溶剂为环庚烷、环辛烷、三溴甲烷、溴苯、二苄醚、苯甲醚、苯甲醛、糠醛、乙酸戊酯、乙二醇单甲醚、丁醇或戊醇。

4.如权利要求1~3任一项所述的制作方法,其特征在于,采用以下成膜工艺,在每一个所述凹槽组中的各凹槽中形成相同颜色的有机发光薄膜,还包括:

在本次喷墨打印工艺之前未形成有机发光薄膜的所述凹槽内滴入第二保护溶剂。

5.如权利要求4所述的制作方法,其特征在于,在同一次所述成膜工艺中,所述墨滴与所述第二保护溶剂的沸点之差小于设定值。

6.如权利要求4所述的制作方法,其特征在于,采用以下成膜工艺,在每一个所述凹槽组中的各凹槽中形成相同颜色的有机发光薄膜之前,还包括:

在所述像素界定层中的各所述凹槽内形成至少一层有机功能层;

所述第二保护溶剂为对应于所述有机功能层的不良溶剂。

7.如权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述第二保护溶剂为环庚烷、环辛烷、三溴甲烷、溴苯、二苄醚、苯甲醚、苯甲醛、糠醛、乙酸戊酯、苯甲酸乙酯、乙二酸二乙酯、甘油三丁酸酯、对乙氧基苯胺或苯甲酸乙酯。

8.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,对所述墨滴和所述第一保护溶剂进行干燥成膜处理,包括:

将喷墨打印后的所述衬底基板置于真空干燥箱中,在室温下真空抽气,使大气压在1分钟内从105pa降到小于10pa,然后维持10分钟。

9.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,对所述墨滴和所述第一保护溶剂进行干燥成膜处理,包括:

将喷墨打印后的所述衬底基板置于真空干燥箱中,在室温下真空抽气,使大气压在1分钟内从105pa降到小于103pa,维持10分钟;然后在1分钟内降到小于10pa,并维持10分钟。

10.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,在采用以下成膜工艺,在每一个所述凹槽组中的各凹槽中形成相同颜色的有机发光薄膜之后,还包括:

在所有的所述凹槽中形成有机发光薄膜后,对各所述凹槽内的所述有机发光薄膜进行烘烤。

11.如权利要求10所述的制作方法,其特征在于,所述对各所述凹槽内的所述有机发光薄膜进行烘烤,包括:

在氮气或者空气的环境下,采用130℃~250℃范围内的温度烘烤10分钟~60分钟。

12.一种有机电致发光显示面板,其特征在于,所述有机电致发光显示面板采用如权利要求1~11任一项所述的制作方法制作而成。

13.一种显示装置,其特征在于,包括:如权利要求12所述的有机电致发光显示面板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910311622.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top