[发明专利]一种薄膜沉积镀膜系统及对薄膜进行沉积镀膜的方法有效

专利信息
申请号: 201910307366.6 申请日: 2019-04-16
公开(公告)号: CN110129771B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 邵涛;孔飞;章程;张帅;张鹏浩 申请(专利权)人: 中国科学院电工研究所
主分类号: C23C16/56 分类号: C23C16/56;C23C16/54;C23C16/515
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 尚素丽
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 薄膜 沉积 镀膜 系统 进行 方法
【权利要求书】:

1.一种薄膜沉积镀膜系统,其特征在于,包括:

后处理装置,包括靠近所述薄膜(2)两面并相对设置的高压电极板(5)和接地电极板(3),所述高压电极板(5)靠近所述薄膜(2)的一面设置有用于镀膜表面老练的局部放电结构,所述后处理装置为两组,两组所述后处理装置沿所述薄膜(2)的输送方向依次设置,两组所述后处理装置的高压电极板(5)分设于所述薄膜(2)的不同侧;

还包括设于所述后处理装置的输入端的镀膜装置,和设置于所述镀膜装置的输入端的预处理装置,所述预处理装置包括分别靠近所述薄膜(2)两面并相对设置的高压电极板(5)和接地电极板(3),所述高压电极板(5)靠近所述薄膜(2)的一面设置有介质阻挡层(4);所述镀膜装置为两组,两组所述镀膜装置沿所述薄膜(2)的输送方向依次设置,两组所述镀膜装置的高压电极阵列(7)分设于所述薄膜(2)的不同侧;所述预处理装置为两组,两组所述预处理装置沿所述薄膜(2)的输送方向依次设置,两组所述预处理装置的高压电极板(5)分设于所述薄膜(2)的不同侧;

所述镀膜装置包括靠近所述薄膜(2)两面并相对设置的接地电极板(3)和高压电极阵列(7),所述高压电极阵列(7)形成有若干等间距排列的第一进气孔,所述高压电极阵列(7)靠近所述薄膜(2)的一面设置有介质阻挡阵列(8),所述介质阻挡阵列(8)形成有若干与所述第一进气孔对应设置的第二进气孔。

2.根据权利要求1所述的薄膜沉积镀膜系统,其特征在于,所述局部放电结构为电晕放电结构。

3.根据权利要求2所述的薄膜沉积镀膜系统,其特征在于,所述电晕放电结构为若干均匀排布的针状结构。

4.根据权利要求1-3任一项所述的薄膜沉积镀膜系统,其特征在于,还包括用于输送薄膜(2)的输送装置,所述输送装置包括用于输送薄膜(2)的第二滚轮(9)和用于收集薄膜(2)的收集辊(10),所述后处理装置设置于所述第二滚轮(9)和所述收集辊(10)之间。

5.根据权利要求4所述的薄膜沉积镀膜系统,其特征在于,所述镀膜装置包括靠近所述薄膜(2)两面并相对设置的接地电极板(3)和高压电极阵列(7),所述高压电极阵列(7)形成有若干等间距排列的第一进气孔,所述高压电极阵列(7)靠近所述薄膜(2)的一面设置有介质阻挡阵列(8),所述介质阻挡阵列(8)形成有若干与所述第一进气孔对应设置的第二进气孔。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院电工研究所,未经中国科学院电工研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910307366.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top