[发明专利]Ce3+掺杂SrMgF4多晶荧光材料的制备方法在审

专利信息
申请号: 201910294625.6 申请日: 2019-04-12
公开(公告)号: CN110257056A 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 张东明;柳琪;邵刚勤;朱璨;王俊;晏佳礼;张勇 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: C09K11/61 分类号: C09K11/61;C09D5/22
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 崔友明;闭钊
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 荧光材料 多晶 金属阳离子 氟阴离子 混合溶液 制备 配制 掺杂 共沉淀反应 紫外光区域 缓慢滴加 制备工艺 掺杂量 前驱体 烘干 氟源 镁源 煅烧 铈源 锶源 洗涤 安全
【权利要求书】:

1.Ce3+掺杂SrMgF4多晶荧光材料的制备方法,其特征在于包括以下步骤:

(a)将锶源、镁源、铈源溶于溶剂中,得到金属阳离子混合溶液;将氟源溶于溶剂中,得到氟阴离子溶液;

(b)将金属阳离子混合溶液滴加到氟阴离子溶液中,反应完成后得到前驱体粉末;

(c)将前驱体粉末煅烧即可。

2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述锶源、镁源、铈源具体为对应金属的碳酸盐、乙酸盐或者硝酸盐。

3.如权利要求2所述的制备方法,其特征在于:所述锶源选自碳酸锶、醋酸锶中的一种,所述镁源选自碳酸镁、乙酸镁或其水合物中的一种,所述铈源选自硝酸铈或其水合物、乙酸铈中的一种。

4.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述氟源选自二氟化氢氨、氟化氨中的一种。

5.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述溶剂具体为稀醋酸水溶液或去离子水。

6.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:滴加进行反应时,锶源、镁源、铈源的用量参照产物化学计量比,氟源的用量在产物化学计量比的基础上过量10%以内。

7.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:反应完成后将混合物置于70-90℃环境中干燥45-72h,所得固体用去离子水反复洗涤多次,最后在70-90℃下干燥2-4h得到前驱体粉末。

8.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:煅烧时将前驱体粉末从室温加热至400℃,保温1h后逐渐冷却至室温,升温或降温速率控制在5-10℃/min,煅烧气氛为空气气氛。

9.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤(c)所得产物为低温单斜相,Ce3+掺杂量控制在8%以内。

10.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于该方法还包括步骤(d):将步骤(c)制得的Ce3+掺杂SrMgF4荧光粉末涂敷在部件表面,所述部件材质包括金属、树脂、玻璃、布料、混凝土等。

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