[发明专利]一种应用于探头表面高温导电耐蚀Ti-Nb-Ta合金薄膜材料及其制备方法

权利要求书

1.一种应用于探头表面高温导电耐蚀Ti-Nb-Ta合金薄膜材料的制备方法，其特征在于，所述的合金薄膜材料包括Ti、Nb、Ta三种元素，其合金成分的原子百分比表达为Ti_x-Nb_y-Ta_1-x-y,其中，x＝97～98.4％，y＝0.8～1.5％；

所述的应用于探头表面高温导电耐蚀Ti-Nb-Ta合金薄膜材料的制备方法，包括以下步骤：

(一)制备溅射靶材：

利用高纯Nb片和高纯Ta片制成厚度1mm、直径4mm圆形片或3mm×3mm方形片，按照最终薄膜材料所需合金成分各元素原子百分比，利用导电银胶在高纯Ti溅射靶材上均匀粘贴上述高纯Nb片和高纯Ta片，制成合金溅射靶材；

(二)制备三元合金薄膜：

首先，将探头样品作为基体进行超声清洗、烘干处理；其次，采用高真空多靶磁控溅射沉积系统，将探头样品固定在基片台上，将步骤(一)制备的合金溅射靶材以及同等尺寸的高纯Ti靶材分别固定在两个溅射靶头上，由真空系统将真空腔室抽真空至1.0×10^-4pa～5.0×10^-4pa；样品台温度控制在室温～300℃之间；通入氩气，调整气体流量为8sccm～15sccm，调节工作气压稳定在0.2pa～0.5pa，待示数稳定后调节溅射功率为80w～120w，溅射时间为30min～300min；最后，随炉充分冷却后取出探头样品，探头样品表面沉积合成三元Ti-Nb-Ta合金薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种应用于探头表面高温导电耐蚀Ti-Nb-Ta合金薄膜材料的制备方法，其特征在于，所述的钛靶、高纯Ta片和高纯Nb片纯度均要求为99％以上。

3.根据权利要求1或2所述的一种应用于探头表面高温导电耐蚀Ti-Nb-Ta合金薄膜材料的制备方法，其特征在于，在正式溅射沉积镀层前，预先利用离子源对探头表面进行Ar⁺离子刻蚀清洗，以去除探头表面氧化层以及吸附的有机物污染物。

4.根据权利要求1或2所述的一种用于探头表面高温导电耐蚀Ti-Nb-Ta合金薄膜材料的制备方法，其特征在于，在正式溅射沉积镀层前，预先对合金溅射靶材进行预溅射，去除靶材表面的氧化物或其他杂质。