[发明专利]非均质性页岩非均匀分簇射孔优化方法有效

专利信息
申请号: 201910288574.6 申请日: 2019-04-11
公开(公告)号: CN110005380B 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 李军;王滨;张辉;柳贡慧;翟文宝;颜辉 申请(专利权)人: 中国石油大学(北京)
主分类号: E21B43/116 分类号: E21B43/116;E21B43/26;E21B47/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 孙乳笋;王涛
地址: 102249*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 非均质性 页岩 均匀 分簇射孔 优化 方法
【权利要求书】:

1.一种非均质性页岩非均匀分簇射孔优化方法,其特征在于,包括:

根据页岩水平井不同井段的储层页岩特性制作多个页岩靶,其中,所述储层页岩特性包括:页岩层理倾角、页岩的力学性质、裂缝特征以及岩性特征,任意两个页岩靶的至少一个所述储层页岩特性不同;所述岩性特征用于体现页岩层中的岩石材料;

采用多种射孔方式以及多种射孔参数对所述多个页岩靶进行射孔实验,并检测射孔后的孔眼质量参数、岩石渗透率、孔周冲击裂缝发育情况,以确定不同的影响因素对孔眼质量参数、岩石渗透率、孔周冲击裂缝发育情况的影响规律,所述影响因素包括:页岩层理倾角、页岩的力学性质、裂缝特征、岩性特征、射孔方式以及射孔参数;

根据所述影响规律进行非均质性页岩非均匀分簇射孔优化。

2.根据权利要求1所述的非均质性页岩非均匀分簇射孔优化方法,其特征在于,所述采用多种射孔方式以及多种射孔参数对所述多个页岩靶进行射孔实验,包括:

从所述多个页岩靶中选择出与目标探究影响因素对应的页岩靶;

根据所述目标探究影响因素确定射孔方式以及射孔参数;

根据确定出的射孔方式以及射孔参数对选择出的页岩靶进行射孔实验。

3.根据权利要求1所述的非均质性页岩非均匀分簇射孔优化方法,其特征在于,还包括:

根据所述页岩层理倾角以及所述页岩的力学性质确定所述页岩靶的非均质性;

对不同非均质性的多个页岩靶进行射孔实验,并检测射孔后的孔眼质量参数、岩石渗透率、孔周冲击裂缝发育情况,以确定页岩非均质性对孔眼质量参数、岩石渗透率、孔周冲击裂缝发育情况的影响规律。

4.根据权利要求1所述的非均质性页岩非均匀分簇射孔优化方法,其特征在于,还包括:

对不同岩性特征的多个页岩靶采用不同的射孔方式和/或不同的射孔参数进行射孔实验,并检测射孔后的孔眼质量参数、岩石渗透率、孔周冲击裂缝发育情况,以确定岩性特征、射孔方式和射孔参数的耦合作用因素对孔眼质量参数、岩石渗透率、孔周冲击裂缝发育情况的影响规律。

5.根据权利要求1所述的非均质性页岩非均匀分簇射孔优化方法,其特征在于,还包括:

根据所述页岩水平井各井段对应的页岩靶的射孔实验结果,确定各井段的射孔方式和射孔参数分别对孔眼质量参数、岩石渗透率、孔周冲击裂缝发育情况的影响规律。

6.根据权利要求1所述的非均质性页岩非均匀分簇射孔优化方法,其特征在于,所述根据页岩水平井不同井段的储层页岩特性制作多个页岩靶,包括:

调整浇筑的所述页岩靶的页岩层与水平面的夹角以模拟不同的所述页岩层理倾角。

7.根据权利要求1所述的非均质性页岩非均匀分簇射孔优化方法,其特征在于,所述根据页岩水平井不同井段的储层页岩特性制作多个页岩靶,包括:

调整浇筑的所述页岩靶的页岩层的浇筑物料以模拟不同的所述页岩的力学性质。

8.根据权利要求1所述的非均质性页岩非均匀分簇射孔优化方法,其特征在于,所述根据页岩水平井不同井段的储层页岩特性制作多个页岩靶,包括:

在浇筑所述页岩靶时通过在与所述裂缝特征对应的位置处放置纸张以模拟所述裂缝特征。

9.根据权利要求1所述的非均质性页岩非均匀分簇射孔优化方法,其特征在于,所述根据页岩水平井不同井段的储层页岩特性制作多个页岩靶,包括:

在浇筑所述页岩靶时通过在与所述岩性特征对应的位置处铺置不同的岩石材料,以模拟所述岩性特征。

10.根据权利要求9所述的非均质性页岩非均匀分簇射孔优化方法,其特征在于,所述岩石材料包括:模拟砂岩的岩石材料、模拟砾岩的岩石材料以及模拟火成岩的岩石材料。

11.根据权利要求1所述的非均质性页岩非均匀分簇射孔优化方法,其特征在于,所述采用不同的射孔方式和/或不同的射孔参数对所述页岩靶进行射孔实验,包括:采样正交实验法进行所述射孔实验。

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