[发明专利]一种高性能薄膜晶硅钙钛矿异质结太阳电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910279989.7 申请日: 2019-04-08
公开(公告)号: CN111799375A 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 田汉民;方国川;常卫洪 申请(专利权)人: 河北工业大学
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/44;H01L51/46;H01L51/48
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300401 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 性能 薄膜 晶硅钙钛矿异质结 太阳电池 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种钙钛矿异质结太阳电池,其特征在于:是一种具有电子阻挡结构层的钙钛矿异质结太阳电池,由透明导电薄膜、由致密二氧化钛构成的电子传输层、钙钛矿光吸收层、电子空穴阻挡结构层、P型薄膜晶硅层和Al背电极构成,其中,钙钛矿光吸收层与电子空穴阻挡结构层具备相匹配的能级,在P型晶硅薄膜层与钙钛矿光吸收层之间加由P型氧化镍构成的电子阻挡结构层;其组成顺序方式是:由致密二氧化钛构成的电子传输层置于透明导电薄膜上面,钙钛矿光吸收层置于由致密二氧化钛构成的电子传输层上面,电子阻挡结构层置于钙钛矿光吸收层上面,P型薄膜晶硅层置于电子阻挡结构层上面,Al背电极置于P型薄膜晶硅层上面,以上六个功能层依次叠加构成此一种薄钙钛矿异质结太阳电池。

2.根据权利要求1所述一种钙钛矿异质结太阳电池,其特征在于:所述电子阻挡结构层的厚度为1nm~2000nm。

3.根据权利要求1所述一种钙钛矿异质结太阳电池,其特征在于:所述电子阻挡结构电子阻挡结构层的材料为氧化镍(nickelous oxide),化学式NiO。

4.根据权利要求1所述一种钙钛矿异质结太阳电池,其特征在于:所述钙钛矿光吸收层所用的钙钛矿材料是CH3NH3PbI3或由CH3NH3PbI3、CH3NH3PbCl3、CH3NH3PbI2Cl和CH3NH3PbICl2混合构成,厚度为0.05~30um。

5.根据权利要求1所述一种钙钛矿异质结太阳电池,其特征在于:所述P型薄膜晶体硅层的厚度为10~2000nm。

6.根据权利要求1所述一种钙钛矿异质结太阳电池,所述铝底电极为在衬底上制备的铝薄层,铝薄层厚度为0.1~20um。

7.权利要求1所述一种薄钙钛矿异质结太阳电池的制备方法,其特征在于步骤如下:

在P型薄膜晶硅上制备电子阻挡结构层:

(7.1)制备电子阻挡结构层前驱液:将乙酸镍四水合物溶于2-甲氧基乙醇(C3H8O2)中,溶液中镍离子的浓度为0.1摩尔每升~2摩尔每升;在上述所得溶液中加入单乙醇胺(C2H7NO),单乙醇胺与上述所得溶液的体积比为1∶100-1∶10。将混合溶液在室温(约28℃)下搅拌8~12小时,进而获得电子阻挡结构层前驱液。

(7.2)喷涂电子阻挡结构层:通过业内通用的一般喷涂设备在第一步得到的整体的P型薄膜晶硅层上喷涂电子阻挡结构层前驱液,所喷涂的电子阻挡结构层前驱液在P型薄膜晶硅层上所构成的涂层厚度为0.5-5μm。将上述整体在120℃~175℃下退火10-50分钟。由此在钙钛矿光吸收层上喷涂得到电子阻挡结构层。

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