[发明专利]体声波谐振器及其制造方法和滤波器、射频通信系统有效

专利信息
申请号: 201910272278.7 申请日: 2019-04-04
公开(公告)号: CN111786649B 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 罗海龙 申请(专利权)人: 中芯集成电路(宁波)有限公司上海分公司
主分类号: H03H9/15 分类号: H03H9/15;H03H9/17;H03H9/46;H03H9/54
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 201210 上海市浦东新区中国(上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 声波 谐振器 及其 制造 方法 滤波器 射频 通信 系统
【权利要求书】:

1.一种体声波谐振器,其特征在于,包括:

衬底;

底电极层,设置在所述衬底上,且所述底电极层和所述衬底之间形成有空腔,所述底电极层具有底电极凹陷部,所述底电极凹陷部位于所述空腔的区域中且向着靠近所述空腔的底面的方向凹陷;

压电谐振层,形成在所述空腔上方的所述底电极层上;

顶电极层,形成在所述压电谐振层上,所述顶电极层具有顶电极凸起部,所述顶电极凸起部位于所述空腔的区域中并向着远离所述空腔的底面的方向凸起,所述顶电极凸起部和所述底电极凹陷部均位于所述压电谐振层外围的空腔区域中,所述底电极凹陷部与所述顶电极凸起部均围绕所述压电谐振层的周边方向延伸,且二者至少部分相对;

其中,所述压电谐振层的侧壁表面、所述顶电极凸起部的下表面以及所述底电极凹陷部的上表面均被暴露在所述空腔中。

2.如权利要求1所述的体声波谐振器,其特征在于,所述底电极层还包括底电极搭接部,所述底电极搭接部一端连接所述底电极凹陷部,另一端搭接到所述空腔外围的衬底上;所述顶电极层还包括顶电极搭接部,所述顶电极搭接部一端连接所述顶电极凸起部,另一端延伸到所述空腔外围的衬底上方;所述底电极搭接部和所述顶电极搭接部相互错开。

3.如权利要求2所述的体声波谐振器,其特征在于,所述底电极层还包括与所述压电谐振层重叠的底电极谐振部,所述顶电极层还包括与所述压电谐振层重叠的顶电极谐振部,所述底电极谐振部和所述顶电极谐振部均为多边形。

4.如权利要求3所述的体声波谐振器,其特征在于,所述底电极凹陷部沿着所述底电极谐振部的边设置且至少设置在所述底电极搭接部和所述底电极谐振部对齐的区域中,所述顶电极凸起部沿着所述顶电极谐振部的边设置且至少设置在所述顶电极搭接部和所述顶电极谐振部对齐的区域中。

5.如权利要求4所述的体声波谐振器,其特征在于,所述底电极凹陷部在所述空腔上方至少与所述顶电极搭接部相互错开,或者,所述底电极凹陷部环绕所述底电极谐振部一周;所述顶电极凸起部在所述空腔上方至少与所述底电极搭接部相互错开,或者,所述顶电极凸起部环绕所述顶电极谐振部一周。

6.如权利要求5所述的体声波谐振器,其特征在于,所述顶电极凸起部和所述底电极凹陷部在所述空腔的底面上的投影正好相接或相互错开或具有重叠。

7.如权利要求3所述的体声波谐振器,其特征在于,所述底电极凹陷部、所述底电极搭接部和所述底电极谐振部采用同一膜层形成,所述顶电极凸起部、所述顶电极搭接部和所述顶电极谐振部采用同一膜层形成。

8.如权利要求4所述的体声波谐振器,其特征在于,所述底电极搭接部在自身所处的空腔部分上方完全遮盖空腔,且在所述顶电极搭接部的宽度方向,与所述顶电极搭接部无重叠。

9.如权利要求1至8中任一项所述的体声波谐振器,其特征在于,所述底电极凹陷部与所述压电谐振层之间的水平距离为制造所述底电极凹陷部的工艺所允许的最小距离;所述顶电极凸起部与所述压电谐振层之间的水平距离为制造所述顶电极凸起部的工艺所允许的最小距离。

10.如权利要求1至8中任一项所述的体声波谐振器,其特征在于,所述顶电极凸起部的侧壁相对所述压电谐振层的顶面倾斜,所述底电极凹陷部的侧壁相对所述压电谐振层的底面倾斜。

11.如权利要求10所述的体声波谐振器,其特征在于,所述顶电极凸起部的侧壁和所述压电谐振层的顶面之间的夹角小于等于45度,所述底电极凹陷部的侧壁与所述压电谐振层的底面之间的夹角小于等于45度。

12.如权利要求1至8或11中任一项所述的体声波谐振器,其特征在于,所述底电极凹陷部的线宽为制造所述底电极凹陷部的工艺所允许的最小线宽;所述顶电极凸起部的线宽为制造所述顶电极凸起部的工艺所允许的最小线宽。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯集成电路(宁波)有限公司上海分公司,未经中芯集成电路(宁波)有限公司上海分公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910272278.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top