[发明专利]一种双面太阳能电池超浅结结深的测量方法及其装置有效

专利信息
申请号: 201910259916.1 申请日: 2019-04-02
公开(公告)号: CN110011617B 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 马晓波;陈焕铭;曹志杰;杨利利 申请(专利权)人: 宁夏大学
主分类号: H02S50/10 分类号: H02S50/10;G01B11/22
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 750001 宁夏回族*** 国省代码: 宁夏;64
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摘要:
搜索关键词: 一种 双面 太阳能电池 超浅结结深 测量方法 及其 装置
【权利要求书】:

1.一种双面太阳能电池超浅结结深的测量装置,包括提拉仪(1),其特征在于,所述提拉仪(1)的上部设置有旋转盘(11),所述旋转盘(11)上夹装有真空管(12),所述真空管(12)与真空泵(2)相连,所述真空管(12)的内部设置有石墨电极(5),所述真空管(12)可通过真空度的调节带动石墨电极(5)上下移动,所述石墨电极(5)的上端与直流电源(3)的正极相接通,直流电源(3)可为石墨电极(5)提供电流,所述石墨电极(5)的正下方放置有参比硅片(7),当石墨电极(5)通电后可将参比硅片(7)吸附在石墨电极(5)的下部,所述提拉仪(1)的底部平台上放置有分别盛放HF溶液(8)与电解溶液(9)的容器,所述直流电源(3)的负极与铂阴极(6)相连通,所述铂阴极(6)放置在电解溶液(9)的内部,所述参比硅片(7)的底部与光纤(10)相连接,所述光纤(10)与光纤光谱仪(4)相连,测量过程包括如下步骤:

(1)配制电解溶液(9);

(2)测量参比硅片(7);

(3)阳极氧化扩散片待测面生成二氧化硅膜;

(4)腐蚀二氧化硅;

(5)清洗参比硅片(7);

(6)测量方阻;

(7)累积计算;

(8)测量背面PN结深度。

2.根据权利要求1所述的一种双面太阳能电池超浅结结深的测量装置,其特征在于,具体包括如下步骤:

(1)阳极氧化电解溶液(9)配制为1~10 mol/L 的硝酸溶液,在10~30 V的电压下电解水生长一层SiO2膜,电解时间为5~30 min,电流1~10 mA;

(2)打开真空泵(2)上的调节真空球阀至适当吸力,使其稳定吸住参比硅片(7),放下石墨电极(5)使参比硅片(7)的扩散片待测面轻触电解溶液液面,此时调节真空球阀平衡液面张力,保证参比硅片(7)的上表面不被液体浸入,仅有扩散片待测面浸入电解溶液(9),打开光纤光谱仪(4)对参比硅片(7)进行测量,然后取下参比硅片(7);

(3)升降提拉仪(1),将参比硅片(7)吸附在石墨电极(5)上,使扩散片待测面面向电解溶液(9),同样使其下降至与电解溶液(9)液面刚好接触上;打开电解池直流电源(3),氧化扩散片待测面生成二氧化硅膜,并通过光纤光谱仪(4)实时监测生长氧化膜的厚度至200nm时,关闭直流电源(3),停止氧化;

(4)转动石墨电极(5)使其转至电解池反向的5 %-50 %体积HF溶液(8)中,通过提拉放下参比硅片(7)使其扩散片待测面与HF溶液(8)接触,之后提拉石墨电极(5)使参比硅片(7)远离HF溶液(8),调节吸力取下参比硅片(7)清洗、干燥;

(5)提拉石墨电极(5)使参比硅片(7)远离HF溶液(8),调低真空球阀取下参比硅片(7),进行去离子水清洗干燥;

(6)采用四探针测量扩散片待测面的电阻值;

(7)测量完成后,打开真空球阀使其再次吸住待测参比硅片(7),保证扩散片待测面朝下,重复步骤(3)~(6)直到电阻值等于裸片方阻值或方阻突变,此时由光纤光谱仪(4)测量累积的二氧化硅膜的厚度,并计算出参比硅片(7)的腐蚀深度,即为扩散片待测面的PN结深度;

(8)测量背面PN结深度,清洗干燥后,将参比硅片(7)翻转测试其背面PN结深度,重复步骤(3)~(7)得到背面PN结深度。

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