[发明专利]一种片状FeSiAl抗电磁干扰柔性薄膜的水基流延制备方法在审

专利信息
申请号: 201910256934.4 申请日: 2019-04-01
公开(公告)号: CN109928670A 公开(公告)日: 2019-06-25
发明(设计)人: 雷成龙;吴阳 申请(专利权)人: 南通希尔德新材料科技有限公司
主分类号: C04B26/16 分类号: C04B26/16;C04B26/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 226000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 制备 抗电磁干扰 铁硅铝粉末 柔性薄膜 水基流延 绝缘层 水基流延浆料 水性成膜材料 阻抗匹配特性 不规则形态 硅烷偶联剂 抗氧化处理 磁粉表面 高吸收率 厚度均一 环境友好 碱性溶液 介电常数 均匀包覆 流延成型 流延工艺 生产效率 铁硅铝粉 制备工艺 磁导率 磁性能 电阻率 分散性 硅铝粉 片状化 片状铁 吸收层 增塑剂 粘结剂 浆料 球磨 薄膜 申请
【说明书】:

本申请公开了一种片状FeSiAl抗电磁干扰柔性薄膜的水基流延制备方法,依次包括如下步骤:S1铁硅铝粉末的表面抗氧化处理;S2铁硅铝粉末的片状化处理;S3加入粘结剂、增塑剂等球磨制备水基流延浆料;S4流延成型。本发明通过碱性溶液与硅烷偶联剂的处理,在磁粉表面形成了均匀包覆的绝缘层,有助于改善磁性能,提高电阻率,降低损耗;片状铁硅铝粉在浆料中的分散性、稳定性更佳,同时其相较于不规则形态的铁硅铝粉具有更高的磁导率和更低的介电常数,使其在吸收层厚度,阻抗匹配特性及高吸收率等方面有较佳优势;水性成膜材料的制备工艺简便,残留物少,具有低毒无害、环境友好的特性;流延工艺制得的薄膜厚度均一,操作简单,生产效率高,适用于工业化大规模生产。

技术领域

本发明属于电子元器件材料工艺领域,具体涉及一种片状FeSiAl抗电磁干扰柔性薄膜的水基流延浆料及其薄膜的制备方法。

背景技术

近年来,随着电子电器产品领域的高度集成化发展,无线电能传输技术迅猛发展。其在功能多样化、便捷美观及灵活性等方面表现优异的同时,存在空间电磁损耗及泄露、电磁污染、发热等安全问题。随之带来的电子元器件之间的电磁干扰、电磁兼容性问题日益突出。因此,消除电子元器件间电磁干扰,实现电磁兼容已成为现阶段的重大挑战之一。

专利(CN 105644060 B)公开了一种铁氧体片的制备方法,其通过铁氧体粉体、有机溶剂、粘结剂、增塑剂混合球磨,流延成生片后进行平板或滚压压制、裁切、烧结、塑封、软化成型。此方法对片材压制,烧结后破碎、卷曲;丙酮等有机溶剂的使用增加了生产成本,且造成严重的环境污染;整个生产流程时间久,不利于大规模生产。专利(CN 105985583 A)公开了一种无线充电用橡塑软磁隔磁片的制备方法。具体方法为:橡胶或热塑性材料开炼后,与片状软磁粉、硫化剂、防老剂、偶联剂、增韧剂混炼均匀,压延成型后进行硫化处理,可制备出厚度为0.3mm的磁片。由于橡胶、热塑性材料的弹性较大,塑性差,无法制备出厚度<0.2mm的超薄片材;混炼过程中容易发生热氧化老化,使压片时易开裂,且使用时易老化,造成使用寿命不长等问题。专利(CN 109337189 A)公开了一种低能量损耗的柔性导磁薄膜制备方法。具体方法为:扁平状软磁粉末与聚烯烃粉磨的剪切混合、挤出和压延成型,可得到厚度为0.2-1mm的片材。此发明的材料性能较佳,但工艺流程限制较高,工艺复杂,生产效率低,不利于大规模生产。以此,采用水基溶剂取代主体有机溶剂可有效降低成本,减少环境污染度,可实现产品无有毒残留;同时流延工艺制备方便、高效,可用于大规模生产,且流延出的薄膜厚度可调、不易开裂、卷曲,生产效益高。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种可以有效阻止金属磁粉之间相互接触,提高其抗氧化性能的片状磁粉的制备方法。本发明的另一目的在于提供一种片状金属磁粉的水基流延浆料及其薄膜的制备方法。

本发明的目的通过以下技术方案来实现:一种片状FeSiAl抗电磁干扰柔性薄膜的水基流延制备方法,其特征在于其原料,按重量份计包括:FeSiAl合金粉末100份,去离子水150-350份,无水乙醇50-150份,分散剂0.5-3份,粘结剂5-10份,增塑剂2.5-5份,增韧剂0.5-2份,2mol/L氢氧化钠0.1-0.5份,偶联剂0.1-5份。

所述铁硅铝合金粉末粒径为300目。

所述分散剂为三乙醇胺、聚乙二醇中的一种或几种。

所述粘结剂为聚乙烯醇、聚丙烯酸、水性聚氨酯中的一种或几种。

所述增塑剂为丙三醇、邻苯二甲酸二丁酯中的一种或几种。

所述增韧剂为YM-004增韧剂。

所述偶联剂为硅烷偶联剂KH-560。

上述的抗电磁干扰柔性薄膜的水基流延浆料及其薄膜的制备方法,包括以下步骤:

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