[发明专利]量子点膜、背光模组、液晶显示器及量子点膜制造方法

权利要求书

1.一种量子点膜，其特征在于，包括：

量子点层，包括：多个量子点模块和水氧阻隔挡墙，

每个所述量子点模块包括：量子点材料；

相邻两个所述量子点模块之间设置所述水氧阻隔挡墙；

上阻隔层和下阻隔层；

所述上阻隔层设置在所述量子点层的上表面；

所述下阻隔层设置在所述量子点层的下表面；其中，水氧阻隔挡墙与上阻隔层和下阻隔层之间形成密闭空间。

2.根据权利要求1所述的量子点膜，其特征在于，最外侧的所述量子点模块的外侧也设置所述水氧阻隔挡墙。

3.根据权利要求1所述的量子点膜，其特征在于，

所述水氧阻隔挡墙的截面图形为闭合图形；

或者，

相邻的水氧阻隔挡墙所组成的图形的截面图形为闭合图形。

4.根据权利要求3所述的量子点膜，其特征在于，所述水氧阻隔挡墙的截面图形为矩形或正方形。

5.根据权利要求3所述的量子点膜，其特征在于，所述水氧阻隔挡墙的厚度为5μm～25μm。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述水氧阻隔挡墙包括：水氧阻隔材料，或者，光聚合材料。

7.一种背光模组，其特征在于，包括：如权利要求1-6任一项所述的量子点膜。

8.一种液晶显示器，其特征在于，包括：如权利要求7所述的背光模组。

9.一种量子点膜制造方法，其特征在于，包括：

在下阻隔层的一个表面设置所述量子点层；其中，所述量子点层包括：多个量子点模块和多个水氧阻隔挡墙，每个所述量子点模块包括：量子点材料；相邻两个所述量子点模块之间设置所述水氧阻隔挡墙；

在所述量子点层中背离所述下阻隔层的一面设置上阻隔层；其中，所述水氧阻隔挡墙与所述上阻隔层和所述下阻隔层之间形成密闭空间。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述在第一阻隔层的一个表面形成所述量子点层，包括：

在下阻隔层的一个表面的第一预设位置形成多个量子点模块；

在相邻所述量子点模块之间的空隙中填充所述水氧阻隔挡墙。

11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述在第一阻隔层的一个表面设置所述量子点层，包括：

在下阻隔层的一个表面的第二预设位置设置所述水氧阻隔挡墙；

在相邻所述水氧阻隔挡墙之间的空隙中填充所述量子点模块。

12.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，

所述在下阻隔层的一个表面设置所述量子点层，包括：

在下阻隔层的一个表面设置混合材料，所述混合材料包括：光聚合材料和量子点材料；

所述在所述量子点层中背离所述下阻隔层的一面设置上阻隔层，包括：

在所述混合材料中背离所述下阻隔层的一面设置上阻隔层；

采用预设光源通过在所述上阻隔层中背离所述混合材料的一面设置的掩模射向所述混合材料，以使所述混合材料中的光聚合材料向着所述光源照射的位置聚合，以形成所述水氧阻隔挡墙，以使所述混合材料形成所述量子点层；所述掩模上设置开孔，所述开孔的位置对应所述水氧阻隔挡墙所在的位置。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述预设光源包括：紫外曝光光源；所述掩模包括：紫外掩模；所述光聚合物包括：可在紫外光照射下进行聚合的材料。