[发明专利]掩膜版及其制造方法

说明书

本申请公开了一种掩膜版及其制造方法，属于显示技术领域。所述掩膜版用于通过蒸镀工艺制备显示屏母板，显示屏母板包括显示屏，显示屏具有显示区域和位于显示区域周围的非显示区域，掩膜版包括：导电掩膜基板，以及位于导电掩膜基板一侧的金属膜层，导电掩膜基板设置有开口，开口的大小和形状与显示区域的大小和形状均相等；导电掩膜基板具有第一区域和第二区域，第一区域围绕开口且与开口邻接，第一区域的尺寸大于或等于非显示区域的尺寸，金属膜层在导电掩膜基板上的正投影与第二区域重合。本申请解决了采用掩膜版进行蒸镀形成的图案误差较大，精准度较低的问题。本申请用于制备显示屏母板。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种掩膜版及其制造方法。

背景技术

在有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示屏的制备过程中，通常是先在衬底基板上制造得到显示屏母板，该显示屏母板包括阵列排布的多个显示屏，再对显示屏母板进行切割得到显示屏。其中，显示屏中的整层结构可以采用掩膜版通过蒸镀工艺形成，该整层结构包括电子传输层、空穴传输层和阴极层等。

发明内容

本申请提供了一种掩膜版及其制造方法，可以解决采用掩膜版进行蒸镀形成的图案误差较大，精准度较低的问题。所述技术方案如下：

一方面，提供了一种掩膜版，所述掩膜版用于通过蒸镀工艺制备显示屏母板，所述显示屏母板包括显示屏，所述显示屏具有显示区域和位于所述显示区域周围的非显示区域，所述掩膜版包括：

导电掩膜基板，以及位于所述导电掩膜基板一侧的金属膜层，所述导电掩膜基板设置有开口，所述开口的大小和形状与所述显示区域的大小和形状均相等；

所述导电掩膜基板具有第一区域和第二区域，所述第一区域围绕所述开口且与所述开口邻接，所述第一区域的尺寸大于或等于所述非显示区域的尺寸，所述金属膜层在所述导电掩膜基板上的正投影与所述第二区域重合。

可选地，所述金属膜层的厚度范围为10微米至30微米。

可选地，所述金属膜层的材质为镍铁合金。

另一方面，提供了一种掩膜版的制造方法，所述方法用于制备上述的掩膜版，所述方法包括：

提供导电掩膜基板，所述导电掩膜基板具有第一区域、第二区域和第三区域，所述第一区域围绕所述第三区域且与所述第三区域邻接，所述第三区域用于形成所述掩膜版的开口，所述第三区域的形状和大小与显示屏的显示区域的形状和大小均相等；

在所述第二区域内形成金属膜层，得到所述掩膜版。

可选地，所述在所述第二区域内形成金属膜层，得到所述掩膜版，包括：

在所述导电掩膜基板的指定区域内形成绝缘图案，所述指定区域包括所述第一区域且不包括所述第二区域；

通过电镀工艺在所述导电掩膜基板形成有所述绝缘图案的一侧形成所述金属膜层；

去除所述绝缘图案，得到所述掩膜版。

可选地，所述通过电镀工艺在所述导电掩膜基板形成有所述绝缘图案的一侧形成所述金属膜层，包括：

采用电镀液在所述导电掩膜基板形成有所述绝缘图案的一侧形成所述金属膜层；

其中，所述金属膜层的磁性与所述电镀液的铁离子浓度和所述电镀液的电流密度正相关，且与所述电镀液的酸碱值和所述电镀液的温度负相关。

可选地，所述方法还包括：

根据所述掩膜版所在的蒸镀腔室的磁性，确定所述电镀液的铁离子浓度、电流密度、酸碱值和温度，所述铁离子浓度和所述电流密度与所述蒸镀腔室的磁性负相关，所述酸碱值和所述温度与所述蒸镀腔室的磁性正相关。