[发明专利]一种制备无机闪烁体膜的方法

权利要求书

1.一种制备无机闪烁体膜的方法，其特征在于，该方法是采用近空间升华炉，以A_xB_yX_z粉末原料为蒸发源，利用物质升华的原理，先对放有原料和基底的沉积腔体进行抽真空处理，然后在真空环境下对原料和基底进行加热，使A_xB_yX_z材料沉积在基底上，从而得到A_xB_yX_z无机闪烁体膜；

其中，对于所述的A_xB_yX_z粉末原料，A为一价碱金属阳离子；B为Cu,Ag中的任意一种；X为一价卤素阴离子；所述A_xB_yX_z粉末原料中，x:y:z满足1:1:2、1:2:3、2:1:3或3:2:5；

所述的原料加热的目标保温温度T₂高于所述基底的目标保温温度T₀，且所述基底的目标保温温度T₀低于A_xB_yX_z的熔点；

所述原料的加热处理具体包括以下三个阶段：1)第一次升温过程和保温过程，第一次升温的目标温度T₁满足300℃～350℃，升温速率在2.5～3.5℃/s，保温时间在5min～8min；2)第二次升温和保温过程，第二次升温的目标温度T₂满足310℃～450℃，升温速率在0.5～2℃/s，保温时间在80min～150min；3)自然冷却降温；

其中，T₂T₁；

此外，所述基底的加热处理其升温的目标温度T₀满足250℃～300℃，所述基底与所述A_xB_yX_z粉末原料之间的距离范围在0.5～1cm之间。

2.如权利要求1所述制备无机闪烁体膜的方法，其特征在于，对于所述A_xB_yX_z粉末原料，A为Cs,Rb,K三者中的一个或几个；X为Cl,Br,I三者中的一个或几个。

3.如权利要求1所述制备无机闪烁体膜的方法，其特征在于，所述基底的加热处理其升温的目标温度T₀所采用的升温速率在2.5-3.5℃/s，保温时间在100min～200min，随后自然冷却降温。

4.如权利要求1所述制备无机闪烁体膜的方法，其特征在于，原料温度到达目标保温温度T₂、进而开始保温的时刻不早于基底温度到达目标保温温度T₀、进而开始保温的时刻；并且，原料保温阶段结束、进而从目标保温温度T₂温度开始下降的时刻不晚于基底保温阶段结束、进而从目标保温温度T₀温度开始下降的时刻。

5.如权利要求1所述制备无机闪烁体膜的方法，其特征在于，所述基底为钙钠玻璃、SnO₂:F透明导电玻璃(FTO)、In₂O₃:Sn透明导电玻璃(ITO)、表面镀有ZnO的In₂O₃:Sn透明导电玻璃、表面镀有ZnMgO的In₂O₃:Sn透明导电玻璃中的任意一种。

6.如权利要求1-5任意一项所述制备无机闪烁体膜的方法，其特征在于，所述真空环境的气压不超过4Pa。