[发明专利]电致发光片生产工艺

说明书

本发明涉及电子领域，具体涉及电致发光领域。电致发光片生产工艺，其特征在于：首先，生产片状的基片，基片至少后方设有一电极层，所述电极层前方设有发光层；然后，将基片进行叠合，将至少十片所述基片前后依次叠合，叠合后相邻的基片之间为电致发光系统，叠合后进行固定，形成基片堆；再然后，进行切片，将基片堆进行切片，生成电致发光片。

该分案申请的原申请的申请日为：2014年06月23日，申请号为：2014102834879，名称为：电致发光片及其电致发光显示器和生产工艺

技术领域

本发明涉及电子领域，具体涉及电致发光领域。

背景技术

电致发光(英文electroluminescent)，又可称电场发光，简称EL，是通过加在两电极的电压产生电场，被电场激发的电子碰击发光中心，而引致电子解级的跃进、变化、复合导致发光的一种物理现象。电致发光物料的例子包括掺杂了铜和银的硫化锌和蓝色钻石。目前电致发光的研究方向主要为有机材料的应用。

电致发光板是以电致发光原理工作的。电致发光板是一种发光器件，简称冷光片、EL灯、EL发光片或EL冷光片，它由背面电极层、绝缘层、发光层、透明电极层和表面保护膜组成，利用发光材料在电场作用下产生光的特性，将电能转换为光能。

有机小分子电致发光的原理是:从阴极注入电子，从阳极注入空穴，被注入的电子和空穴在有机层内传输。第一层的作用是传输空穴和阻挡电子，使得没有与空穴复合的电子不能进入正电极，第二层是电致发光层，被注入的电子和空穴在有机层内传输，并在发光层内复合，从而激发发光层分子产生单态激子，单态激子辐射衰减而发光。

对于聚合物电致发光过程则解释为:在电场的作用下，将空穴和电子分别注入到共轭高分子的最高占有轨道(HOMO)和最低空轨道(LUMO)，于是就会产生正、负极子，极子在聚合物链段上转移，最后复合形成单态激子，单态激子辐射衰减而发光。

传统的技术是：在光洁的玻璃表面，镀上一层透明的氧化锡铟(ITO)作正极，第一层为空穴传输层，常用的材料是芳香双胺如TPD、TAD等；第二层是电子传输层，常用的材料是8-羟基喹啉铝(Alq3)、8-羟基喹啉锌(Znq2)等；第三层镁铝电极。对于有机小分子EL器件，每层的厚度为几十纳米，一般在高真空度(1×10-3Pa)蒸镀而成。而有机聚合物EL器件厚度比小分子稍厚，采用旋转涂铺法成膜。

电致发光显示器ELD适用平坦互相平行的电极和EL材料组成。顶层必须可以透光，使光能穿透。每一个交界，材料发光造成像素。

由以上信息可知。电致发光技术具有广阔的市场和技术发展前景，但是现有的技术存在，生产工艺复杂、成本高、稳定性差等因素，造成难以大范围普及。

发明内容

本发明的目的还在于提供电致发光片生产工艺，以解决上述技术问题。

本发明可以采用以下技术方案来实现：

一种电致发光片生产工艺，其特征在于：

首先，生产片状的基片，基片至少后方设有一电极层，所述电极层前方设有发光层；

然后，将基片进行叠合，将至少十片所述基片前后依次叠合，叠合后相邻的基片之间为电致发光系统，叠合后进行固定，形成基片堆；

再然后，进行切片，将基片堆进行切片，生成电致发光片。

基板由切割后的基片固定排列构成。

还可以包括一覆膜工艺，在电致发光片的至少一面附上透光膜。以进行保护或者实现其他光学性能，再或者实现一些电学性能。

通过上述生成工艺，可以在成本低、工艺要求低的情况下，快速生产电致发光片。

在生产片状的基片时，所述电极层可以为条状的电极排列成的电极层。