[发明专利]一种致密超硬的高熵硼化物陶瓷及其制备方法和应用有效
| 申请号: | 201910223884.X | 申请日: | 2019-03-22 |
| 公开(公告)号: | CN110002879B | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
| 发明(设计)人: | 郭伟明;张岩;吴利翔;张威;林华泰 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
| 主分类号: | C04B35/58 | 分类号: | C04B35/58;C04B35/626;C04B35/64 |
| 代理公司: | 广东广信君达律师事务所 44329 | 代理人: | 杨晓松 |
| 地址: | 510062 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 致密 高熵硼化物 陶瓷 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种致密超硬的高熵硼化物陶瓷,其特征在于,所述高熵硼化物陶瓷(M1xM2yM3zM4nM5m)B2是先将金属氧化物、B4C和石墨粉加入溶剂和球磨介质进行混合,干燥后得到混合粉体,将混合粉体模压制成坯体,在真空条件下进行热处理,先升温至800~1200℃保温Ⅰ,再升温至1400~1600℃保温Ⅱ,经研磨过筛制得(M1xM2yM3zM4nM5m)B2高熵硼化物陶瓷粉末,所述氧化物为HfO2、ZrO2、Nb2O5、Ta2O5、Cr2O3、TiO2或MoO3中的任意五种,0.1≤x≤1,0.1≤y≤1,0.1≤z≤1,0.1≤n≤1,0.1≤m≤1,且满足x+y+z+n+m=1;采用放电等离子烧结将上述高熵陶瓷粉末升温至1000~1400℃时充入保护气氛,然后升温至1800~2200℃煅烧制得;所述金属氧化物、B4C和石墨粉的纯度均为99.0~99.9wt%,所述金属氧化物、B4C和石墨粉的粒径均为0.1~10μm;所述石墨粉、B4C与金属氧化物HfO2、ZrO2、Cr2O3或TiO2中的任意一种的摩尔比均为(1~10):(1~10):(1~10),所述石墨粉、B4C与金属氧化物Nb2O5或Ta2O5中的任意一种的摩尔比均为(1~20):(1~10):(1~10),所述石墨粉、B4C与MoO3的摩尔比为(1~20):(1~10):(1~20)。
2.根据权利要求1所述的致密超硬的高熵硼化物陶瓷,其特征在于,所述陶瓷粉末的粒径为0.1~1μm;所述陶瓷粉末中的氧含量为1~5wt%,所述陶瓷粉末中的碳含量为0.1~1wt%。
3.根据权利要求1所述的致密超硬的高熵硼化物陶瓷,其特征在于,所述高熵硼化物陶瓷的相对密度98%,硬度为32~45GPa,断裂韧性3~10MPa·m1/2,碳含量为0.1~1wt%。
4.根据权利要求1所述的致密超硬的高熵硼化物陶瓷,其特征在于,所述石墨粉、B4C与金属氧化物HfO2、ZrO2或TiO2的摩尔比均为9:6:2,所述石墨粉、B4C与金属氧化物Nb2O5或Ta2O5的摩尔比均为14:6:5,所述石墨粉、B4C与Cr2O3的摩尔比为4:6:5,所述石墨粉、B4C与MoO3的摩尔比为19:6:10。
5.根据权利要求1所述的致密超硬的高熵硼化物陶瓷,其特征在于,所述溶剂为乙醇、丙醇、甲醇或丙酮。
6.根据权利要求1所述的所述的致密超硬的高熵硼化物陶瓷,其特征在于,所述保护气氛为N2或Ar。
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