[发明专利]一种长链共轭π键交联超强韧高导电石墨烯复合薄膜的制备方法有效
| 申请号: | 201910220269.3 | 申请日: | 2019-03-22 |
| 公开(公告)号: | CN109956465B | 公开(公告)日: | 2020-09-08 |
| 发明(设计)人: | 程群峰;万思杰;江雷 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
| 主分类号: | C01B32/184 | 分类号: | C01B32/184;C08F138/00 |
| 代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 安丽;成金玉 |
| 地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 共轭 交联 强韧 导电 石墨 复合 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种长链共轭π键交联超强韧高导电石墨烯复合薄膜的制备方法,其特征在于,实现步骤如下:
(1)将芘甲醇和10,12-二十二碳二炔二酸(DDA)搅拌混合均匀,再向其中加入1-乙基-3-(3-二甲氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐(EDCI)、4-二甲基氨基吡啶(DMAP)和二氯甲烷(DCM),搅拌反应一段时间,得到10,12-二十二碳二炔二酸二芘甲酯(BPDD);
(2)利用搅拌方法将步骤(1)制得的BPDD均匀溶解于DCM中,得到BPDD分散液;
(3)利用搅拌超声方法将氧化石墨烯(GO)配成均匀的GO水溶液;
(4)采用真空抽滤法将步骤(3)得到的所述GO水溶液组装成自支撑的GO薄膜;
(5)将步骤(4)得到的GO薄膜浸泡于氢碘酸(HI)中,洗涤干燥后得到还原氧化石墨烯(rGO)薄膜;
(6)在避光条件下,将步骤(5)得到的rGO薄膜浸泡于步骤(2)得到的BPDD分散液中,使BPDD通过共轭π键吸附在rGO纳米片表面,洗涤干燥后得到复合薄膜;
(7)在惰性气体保护下,对步骤(6)得到的所述复合薄膜进行紫外光照射,制得长链共轭π键交联的石墨烯(πBG)复合薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种长链共轭π键交联超强韧高导电石墨烯复合薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中芘甲醇和DDA的质量比为1.28~1.4,EDCI和DDA的质量比为1.5~1.8,DMAP和DDA的质量比为0.3~0.5,DCM和DDA的质量比为300~350;搅拌反应时间为24~36h,反应时避光。
3.根据权利要求1所述的一种长链共轭π键交联超强韧高导电石墨烯复合薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中,BPDD分散液的浓度为0.5~2mg/mL;搅拌时间为20~40min,避光搅拌。
4.根据权利要求1所述的一种长链共轭π键交联超强韧高导电石墨烯复合薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中,GO水溶液的浓度为1~2mg/mL,搅拌时间为1~3h,超声时间为2~3min,超声功率为70W,冰水浴中超声。
5.根据权利要求1所述的一种长链共轭π键交联超强韧高导电石墨烯复合薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(4)中,采用真空抽滤法将步骤(3)得到的GO水溶液组装成自支撑的GO薄膜的具体实现过程为:
(a)首先将超声搅拌均匀的GO水溶液加入真空抽滤瓶中;
(b)启动真空泵,进行真空抽滤,真空度为1~10Pa;
(c)随着抽滤的进行,GO纳米片在水流作用下组装成层状结构,待抽滤完成,即得到自支撑GO薄膜。
6.根据权利要求1所述的一种长链共轭π键交联超强韧高导电石墨烯复合薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(5)中,HI溶液的浓度为30~60wt%,HI溶液和GO薄膜的质量比为150~250,还原时间为6~12h,洗涤方法为在无水乙醇溶液中浸泡1~3天,干燥工序为30~35℃下真空干燥2~3h。
7.根据权利要求1所述的一种长链共轭π键交联超强韧高导电石墨烯复合薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(6)中,BPDD溶液和rGO薄膜的质量比为200~400,rGO薄膜在BPDD溶液中的浸泡时间为1~50h。
8.根据权利要求1所述的一种长链共轭π键交联超强韧高导电石墨烯复合薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(6)中,洗涤方法为在DCM中浸泡3~9h;干燥工序为30~35℃下,真空干燥2~3h。
9.根据权利要求1所述的一种长链共轭π键交联超强韧高导电石墨烯复合薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(7)中,惰性气体为氩气;紫外光的波长为365nm,紫外光照射时间为2~3h。
10.根据权利要求1所述的一种长链共轭π键交联超强韧高导电石墨烯复合薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(7)中,制得的πBG复合薄膜的直径为2~4cm,厚度为1~10μm。
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