[发明专利]一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺

说明书

本发明公开了一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：3%～7%的三氯化铁、17～25%的硫酸溶液和68%～80%的水，上述组成成份的重量比以克为单位，将三氯化铁与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；第二步，将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后，再放入将待抛光的铜或铜合金；第三步，铜或铜合金的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下，再经过研磨辅料的摩擦作用，对铜或铜合金的表面进行抛光。采用本发明的抛光处理剂和处理工艺，铜或铜合金的表面抛光过程不需要人工干预，30分钟即完成表面抛光，具有省时省力的优点，抛光效率高，抛光成本低。

技术领域

本发明涉及铜或铜合金加工技术领域，尤其指一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺。

背景技术

在铜件制作过程中，铜饰倒模出来后都要进行打磨和抛光处理，这样使得铜饰表面具有光泽度，显得更加美观。传统的铜饰抛光方法主要为机械抛光法，机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用锉刀、砂纸、海绵轮、布轮、麻轮和羊毛轮等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008 m 的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。采用机械抛光法可以达到很好的抛光效果，但是需要耗费大量的人力和工时，抛光效率比较低。

发明内容

本发明的主要目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺，其利用本发明的抛光处理剂，利用抛光处理剂对铜或铜合金表面的腐蚀，结合简单的研磨机和研磨辅料，不用人为干预，即可实现自动抛光。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：

第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：3%～7%的三氯化铁、17～25%的硫酸溶液和68%～80%的水，上述组成成份的重量比以克为单位，将三氯化铁与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；

第二步，将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后，再放入将待抛光的铜或铜合金；

第三步，铜或铜合金的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下，再经过研磨辅料的摩擦作用，对铜或铜合金的表面进行抛光。

所述抛光处理剂的组成成份重量比为：3%的三氯化铁、17%的硫酸溶液和80%的水。

所述抛光处理剂的组成成份重量比为：4%的三氯化铁、17.5%的硫酸溶液和78.5%的水。

所述抛光处理剂的组成成份重量比为：6%的三氯化铁、20%的硫酸溶液和74%的水。

所述抛光处理剂的组成成份重量比为：7%的三氯化铁、25%的硫酸溶液和68%的水。

所述研磨机为带振动筒的振动抛光机、涡流研磨机、槽式振动机、滚筒抛光机或高速离心机。

所述研磨辅料为树脂胶粒、高铝瓷、高频瓷、陶瓷、氧化锆或棕刚玉。

所述硫酸溶液在20℃下的浓度为98%。

所述树脂胶粒的目数为600～800目。

与现有技术相比，本发明有益效果：

利用本发明的抛光处理剂对铜或铜合金表面的腐蚀，有软化切削的作用，再加上研磨辅料的磨擦使产品表面达到平整光滑的效果。采用本发明的抛光处理剂和处理工艺，铜或铜合金的表面抛光过程不需要人工干预，30分钟即完成表面抛光，具有省时省力的优点，抛光效率高，抛光成本低。

具体实施方式