[发明专利]基板处理装置及其排气方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其具备烘烤单元且对基板进行覆膜形成处理，该烘烤单元对涂布有当加热时会产生升华物的处理液的基板进行加热而在基板面烧结覆膜，所述装置包括以下的要素：

第1烘烤组，具备多个所述烘烤单元而构成；

第2烘烤组，具备多个所述烘烤单元而构成；

第1排气管，构成来自所述第1烘烤组的排出气体的排气流路，且其端部与对排出气体进行处理的排出气体处理部连通连接；

第2排气管，构成来自所述第2烘烤组的排出气体的排气流路；及

合流部，设置在所述第1排气管的中途位置，且与所述第2排气管的下游侧连通连接；且

所述第1排气管至少在其一部分具有朝向上下方向配置的部分，

所述合流部设置在所述第1排气管的朝向上下方向配置的部分的中途位置，

所述第1烘烤组与所述第2烘烤组的处理温度相同。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中

所述第1排气管与所述第2排气管于在至所述合流部之前存在弯曲部的情况下，弯曲角度为钝角。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中

所述第1排气管与所述第2排气管相对于所述合流部处的排出气体的流动的中心线以锐角与所述合流部连通连接。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中

所述第1排气管与所述第2排气管相对于所述合流部处的排出气体的流动的中心线以锐角与所述合流部连通连接。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中

所述第1排气管具有从所述朝向上下方向配置的部分在其下游侧沿横向延伸的部分，介于沿上下方向配置的部分与沿横向延伸的部分之间的弯曲部以长于较所述合流部更靠下游的所述第1排气管的纵向的长度的半径形成。

6.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中

所述第1排气管具有从所述朝向上下方向配置的部分在其下游侧沿横向延伸的部分，介于沿上下方向配置的部分与沿横向延伸的部分之间的弯曲部以长于较所述合流部更靠下游的所述第1排气管的纵向的长度的半径形成。

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中

所述烘烤单元具备载置基板并将基板加热的加热板、及配置在所述加热板的上方的盖部件，且

所述排出气体通过所述盖部件进行收集。