[发明专利]金属膜蚀刻组合物及利用其的蚀刻方法在审
| 申请号： | 201910212233.0 | 申请日： | 2019-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN111621785A | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 朴相承;金益儁;金希泰;李宝研;金世训 | 申请（专利权）人： | 易案爱富科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/16 | 分类号： | C23F1/16;C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;金世煜 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属膜 蚀刻 组合 利用 方法 | ||
1.一种金属膜蚀刻组合物，其特征在于，
包含过氧化氢、有机酸、二元醇系高分子和水，
pH范围为3.0至4.4。
2.根据权利要求1所述的金属膜蚀刻组合物，其中，所述有机酸包含亚氨基二琥珀酸。
3.根据权利要求2所述的金属膜蚀刻组合物，其中，所述有机酸还包含选自丙二酸、乙醇酸、乙酸、甲酸、柠檬酸、草酸、丁酸、戊酸、丙酸、酒石酸和葡萄糖酸中的任一种或两种以上。
4.根据权利要求1所述的金属膜蚀刻组合物，其中，所述二元醇系高分子包含聚乙二醇。
5.根据权利要求1所述的金属膜蚀刻组合物，其中，所述金属膜蚀刻组合物包含10至40重量％的过氧化氢、0.1至10重量％的有机酸、0.1至5重量％的二元醇系高分子和余量的水。
6.根据权利要求1所述的金属膜蚀刻组合物，其中，所述金属膜蚀刻组合物还包含选自磷酸铵、磷酸氢铵、过磷酸铵、氟化铵和氟化氢铵中的任一种或两种以上的铵系化合物。
7.根据权利要求1所述的金属膜蚀刻组合物，其中，所述金属膜蚀刻组合物还包含唑系化合物。
8.根据权利要求1所述的金属膜蚀刻组合物，其中，所述金属膜蚀刻组合物还包含选自环己胺、正己胺、异己胺和新己胺中的任一种或两种以上的双氧水稳定剂。
9.根据权利要求1所述的金属膜蚀刻组合物，其中，所述金属膜蚀刻组合物还包含选自氢氧化钠和氢氧化钾中的任一种以上的pH调节剂。
10.根据权利要求2所述的金属膜蚀刻组合物，其中，相对于硅膜或铟系氧化膜，所述金属膜蚀刻组合物将金属膜以无限选择比选择性地进行蚀刻，所述硅膜为选自氧化硅膜和氮化硅膜中的任一种以上，所述铟系氧化膜为选自铟锌氧化物膜、铟锡氧化物膜和铟镓锌氧化物膜中的任一种或两种以上，所述金属膜为选自铜金属膜和钼金属膜中的任一种以上。
11.一种金属膜蚀刻方法，其包括利用权利要求1至10中任一项所述的金属膜蚀刻组合物对金属膜进行蚀刻的步骤。
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