[发明专利]一种激光清洗装置在审
| 申请号： | 201910207444.5 | 申请日： | 2019-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN111715624A | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 刘娟娟;何崇文;余海龙;王启明;李立坤;徐会明;周瑞;胡网勤;安旭彤 | 申请（专利权）人： | 武汉光谷航天三江激光产业技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人： | 刘杰 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 激光 清洗 装置 | ||
1.一种激光清洗装置，其特征在于，所述装置包括：
激光发生装置，所述激光发生装置发出激光束；
准直镜组，所述准直镜组接收所述激光束并输出准直光束；
光束整形元件，所述光束整形元件接收所述准直镜组输出的准直光束，并将所述准直光束转化为贝塞尔光束；
扫描聚焦系统，所述扫描聚焦系统将所述贝塞尔光束聚焦于待清洗工件表面。
2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述激光发生装置发出的激光束为高斯光束、平顶光束、多模光束中的一种。
3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述光束整形元件为DOE轴锥镜。
4.如权利要求3所述的装置，其特征在于，所述DOE轴锥镜包括：
激光增透膜，所述激光增透膜镀于所述DOE轴锥镜表面。
5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述贝塞尔光束锥角β＜0.45°。
6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述扫描聚焦系统是双轴扫描或单轴扫描系统。
7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，当所述扫描聚焦系统为双轴扫描系统时，从所述光束整形元件到所述扫描聚焦系统出光口的光程＜200mm。
8.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述扫描聚焦系统包括：
扫描振镜，所述扫描振镜接收所述贝塞尔光束，对所述贝赛尔光束进行一维或二维扫描并输出；
f-theta聚焦透镜，所述f-theta聚焦透镜接收所述扫描后的贝塞尔光束，并将所述贝塞尔光束聚焦于所述待清洗工件表面。
9.如权利要求3所述的装置，其特征在于，所述DOE轴锥镜的材料为熔融石英。
10.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述激光发生装置为紫外激光器。
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