[发明专利]一种蒸镀沉积设备及其使用方法

权利要求书

1.一种蒸镀沉积设备，其特征在于，包括：

一个沉积腔体；

设置于所述沉积腔体内的基板保持装置，用于固定保持基板；

线型蒸镀源，所述线型蒸镀源包括一个容纳装置，用于容纳蒸镀材料，所述容纳装置包括一个容纳槽和多个盖板，所述多个盖板中的每个盖板可和所述容纳槽组装或拆分，所述容纳槽每次和所述多个盖板中的一个盖板进行组装；

所述每个盖板上设置有多个喷嘴，所述多个盖板的喷嘴分布各不相同；所述多个盖板中的每个盖板和所述容纳槽组装后，所述盖板的多个喷嘴都和所述容纳槽的内部相通；

旋转机构，所述旋转机构使所述基板和所述线型蒸镀源绕所述基板的中心轴相对转动。

2.如权利要求1所述的蒸镀沉积设备，其特征在于，所述每个盖板对应的成膜分布取决于所述盖板的喷嘴分布。

3.如权利要求1所述的蒸镀沉积设备，其特征在于，所述喷嘴分布包括的喷嘴数量不同、喷嘴设置密度不同、喷嘴直径不同、喷嘴形状不同或者喷嘴的倾斜角度不同。

4.如权利要求3所述的蒸镀沉积设备，其特征在于，从靠近所述基板的中心轴到远离所述基板的中心轴方向，所述多个喷嘴的设置密度增加。

5.如权利要求3所述的蒸镀沉积设备，其特征在于，从靠近所述基板的中心轴到远离所述基板的中心轴方向，所述多个喷嘴的喷嘴直径增大。

6.如权利要求3所述的蒸镀沉积设备，其特征在于，所述多个喷嘴中至少有一个喷嘴和所述线型蒸镀源的平面之间具有25～35度的夹角。

7.如权利要求3所述的蒸镀沉积设备，其特征在于，在垂直于所述基板平面的方向，所述多个喷嘴中至少有一个喷嘴和所述基板不重叠。

8.如权利要求1所述的蒸镀沉积设备，其特征在于，所述线型蒸镀源配置一个成膜速率监控器。

9.如权利要求1所述的蒸镀沉积设备，其特征在于，所述基板保持装置设置有第一旋转机构，所述第一旋转机构带动所述基板保持装置绕所述基板的中心轴转动。

10.如权利要求1所述的蒸镀沉积设备，其特征在于，所述线型蒸镀源设置有第二旋转机构，所述第二旋转机构带动所述线型蒸镀源绕所述基板的中心轴转动。

11.如权利要求1所述的蒸镀沉积设备，其特征在于，所述蒸镀沉积设备包括多个所述线型蒸镀源。

12.一种使用权利要求1所述的蒸镀沉积设备进行有机材料层成膜工艺的方法，其特征在于，包括：

首次蒸镀沉积步骤：将所述多个盖板中的一盖板和所述容纳槽组装，将所述基板放入所述沉积腔体内，所述旋转机构使所述基板和所述线型蒸镀源绕所述基板的中心轴相对转动，并在所述基板上进行蒸镀沉积成膜；

测量步骤：测量所述基板上的有机膜层的膜层参数；

判断步骤：判断所述膜层参数是否符合工艺标准要求，如符合则进入正常生产；如不符合则执行盖板替换步骤；

盖板替换步骤：根据测量步骤中的膜层参数选取另一盖板，所述另一盖板对应的成膜分布补正所述测量步骤中的膜层参数，将所述另一盖板和所述容纳槽组装；

校正蒸镀沉积步骤：将所述基板放入所述沉积腔体内，所述旋转机构使所述基板和所述线型蒸镀源绕所述基板的中心轴相对转动，并在所述基板上进行蒸镀沉积成膜；

重复所述测量步骤、判断步骤、盖板替换步骤、校正蒸镀沉积步骤，直至所述膜层参数符合工艺标准要求。

13.如权利要求12所述的有机材料层成膜工艺的方法，其特征在于，所述膜层参数包括膜层厚度、膜层均一性和膜层覆盖性。