[发明专利]显示背板及其制作方法、显示装置在审
| 申请号: | 201910196764.5 | 申请日: | 2019-03-15 |
| 公开(公告)号: | CN109920826A | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
| 发明(设计)人: | 樊星;高昊;皇甫鲁江;樊燕;温向敏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 赵天月 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基板 第一电极 发光层 正投影 开口 背板 第二电极 显示装置 波导光 凹部 底面 反射 覆盖 绝缘层 覆盖绝缘层 外量子效应 像素定义层 出光效率 横向传播 反射杯 倾斜部 制作 穿过 | ||
1.一种显示背板,其特征在于,包括:
基板;
绝缘层,所述绝缘层设置在所述基板的一侧,且具有多个凹部,每个所述凹部包括底面和倾斜部;
第一电极,所述第一电极覆盖所述绝缘层远离所述基板的表面;
像素定义层,所述像素定义层设置在所述第一电极远离所述基板的表面,且包括多个开口,所述开口在所述基板上的正投影被所述底面在所述基板上的正投影覆盖;
发光层,所述发光层设置在所述开口中并覆盖部分的所述第一电极;
第二电极,所述第二电极设置在所述发光层远离所述基板的表面,且所述第二电极在所述第一电极上的正投影被所述开口在所述第一电极上的正投影覆盖。
2.根据权利要求1所述的显示背板,其特征在于,所述第一电极为阳极,且由反射材料形成;所述第二电极为阴极,且由透光材料形成。
3.根据权利要求1所述的显示背板,其特征在于,所述第二电极在所述第一电极上的正投影与所述发光层在所述第一电极上的正投影重合。
4.根据权利要求1所述的显示背板,其特征在于,所述第二电极和所述像素定义层在所述基板上的正投影完全覆盖所述基板。
5.一种制作显示背板的方法,其特征在于,包括:
在基板的一侧依次形成绝缘层、第一电极和像素定义层,且所述绝缘层具有多个凹部,每个所述凹部包括底面和倾斜部,所述像素定义层包括多个开口,并且,所述开口在所述基板上的正投影被所述底面在所述基板上的正投影覆盖;
在所述像素定义层远离所述基板的表面形成图案化的光刻胶层,且所述光刻胶层的镂空图案在所述第一电极上的正投影被所述开口在所述第一电极上的正投影覆盖;
在所述光刻胶和所述第一电极的表面形成发光材料层,并剥离所述光刻胶层,以获得发光层;
在所述发光层远离所述基板的表面形成第二电极,且所述第二电极在所述第一电极上的正投影被所述开口在所述第一电极上的正投影覆盖。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述形成第二电极的步骤包括:
通过高精度掩膜板蒸镀形成第二电极。
7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述形成发光层和第二电极的步骤包括:
在所述光刻胶和所述第一电极的表面形成发光材料层和第二电极材料层,并剥离所述光刻胶层,以获得相同图案的发光层和第二电极。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述光刻胶层由负性光刻胶形成,且所述光刻胶层的纵截面呈倒梯形。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述图案化的光刻胶层远离所述基板的表面在所述基板上的正投影覆盖所述像素定义层在所述基板上的正投影。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1~4中任一项所述的显示背板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





