[发明专利]一种清洗液及其制备方法

说明书

本发明公开了一种清洗液，其包括以下质量百分比的原料5％～9％絮凝剂、0.05％～0.5％弱酸及0.05％～1.2％强酸；余量为水；本发明还公开了一种清洗液的制备方法，其包括以下步骤：质量百分比分别为89.3～94.9％的水、5～9％的絮凝剂及0.05～0.5％的弱酸依次加入至配液槽中，搅拌均匀后获得第一混合液；质量百分比为0.05～1.2％的强酸加入第一混合液，获得第二混合液；第二混合液搅拌55～65分钟，获得清洗液。本发明的清洗液具有强清洁力，可以快速去除蚀刻减薄过程中残留的胶液和玻璃渣等杂质，极大地降低了杂质对玻璃基板的蚀刻影响，避免了玻璃基板出现不均匀凸点、凹点等外观不良品，产品的良品率高，本发明的清洗液制备方法简单、易操作，易于工业化推广应用。

技术领域

本发明涉及清洗液技术领域，具体地，涉及一种清洗液及其制备方法。

背景技术

目前，玻璃基板一般通过化学蚀刻的方法进行减薄处理，在化学蚀刻的工艺中，其工艺过程一般为封胶、减薄及研磨，通过封胶将玻璃基板的边缘进行密封处理，防止后续蚀刻药剂进入玻璃基板内部而影响产品性能。蚀刻会将1.0mm或者0.8mm的玻璃基板减薄至0.3mm或者0.4mm，与此同时，在蚀刻减薄过程中会产生一定量的沉淀物，玻璃减薄行业称其为玻璃渣，其主要成分是氟硅酸盐、原硅酸、氟盐等组成的混合物。随着蚀刻减薄过程的进行，封胶残留的胶液和玻璃渣等杂质将沉积在鼓泡管或者槽壁，如果不去除会杂质，当再次利用时杂质会影响减薄的玻璃基板，导致玻璃基板的蚀刻减薄无法均匀进行，影响产品的良品率。现有技术中的清洗液无法将玻璃减薄过程中残留的胶液和玻璃渣等杂质清洗干净。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供一种清洗液及其制备方法。

本发明公开的一种清洗液，包括以下质量百分比的原料：5～9％絮凝剂、0.05～0.5％弱酸及0.05～1.2％强酸；余量为水。

根据本发明的一实施方式，清洗液包括以下质量百分比的原料：9％絮凝剂、0.5％弱酸及1.2％强酸；余量为水。

根据本发明的一实施方式，清洗液包括以下质量百分比的原料：7％絮凝剂、0.2％弱酸及0.6％强酸；余量为水。

根据本发明的一实施方式，清洗液包括以下质量百分比的原料：5％絮凝剂、0.05％弱酸及0.05％强酸；余量为水。

根据本发明的一实施方式，絮凝剂为硫酸铝。

本发明提供的清洗液的制备方法包括如下步骤：

质量百分比分别为89.3～94.9％的水、5～9％的絮凝剂及0.05～0.5％的弱酸依次加入至配液槽中，搅拌均匀后获得第一混合液；第一混合液的温度为30～40℃；

质量百分比为0.05～1.2％的强酸加入第一混合液，获得第二混合液；

第二混合液搅拌55～65分钟，获得清洗液；清洗液的温度为20～40℃。

与现有技术相比，本发明可以获得包括以下效果：

1)本发明提供的清洗液具有强清洁力，可以快速去除蚀刻减薄过程中残留的胶液和玻璃渣等杂质，极大地降低了杂质对玻璃基板的蚀刻影响，避免了玻璃基板出现不均匀凸点、凹点等外观不良品，产品的良品率高。

2)本发明提供的清洗液制备方法简单、易操作，易于工业化推广应用。

具体实施方式

以下将揭露本申请的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本申请。也就是说，在本申请的部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。

实施例1