[发明专利]浸渍涂布用支撑体、电子照相感光体、处理盒及图像形成装置在审
| 申请号: | 201910168939.1 | 申请日: | 2019-03-06 |
| 公开(公告)号: | CN110908257A | 公开(公告)日: | 2020-03-24 |
| 发明(设计)人: | 小川寛晃;我妻优;中村章彦;新宫剣太 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号: | G03G5/10 | 分类号: | G03G5/10 |
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 彭雪瑞;臧建明 |
| 地址: | 日本东京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 浸渍 涂布用 支撑 电子 照相 感光 处理 图像 形成 装置 | ||
本发明提供一种浸渍涂布用支撑体、电子照相感光体、处理盒及图像形成装置。本发明提供一种内周面的涂膜去除性优异的浸渍涂布用支撑体。一种筒状的浸渍涂布用支撑体,其中,轴方向的一端的内周面的算术平均粗糙度Ra为0.26μm以下且所述内周面的最高粗糙度Rz为2.3μm以下。
技术领域
本发明是涉及一种浸渍涂布用支撑体、电子照相感光体、处理盒(processcartridge)及图像形成装置。
背景技术
专利文献1中公开有“一种感光体,其包括在圆筒状的导电性支撑体的外周面上具有涂膜的圆筒状基体及具有外周面固定于所述圆筒状基体的端部内周面的圆筒状的嵌合部的凸缘,且所述感光体中,所述导电性支撑体的与所述凸缘抵接的端部内周面的表面粗糙度Rz为3μm~10μm,且在与所述凸缘抵接的端部内周面具有拨水性树脂皮膜”。
专利文献2中公开有“一种圆筒型电子照相感光体,其具有表面经阳极氧化处理且两端嵌套有凸缘的铝系的圆筒基体,且所述电子照相感光体的特征在于,将导电性的凸缘嵌套于使至少一者的凸缘嵌合部的内表面的表面粗糙度最高Rmax为5μm以上的圆筒基体上而成”。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2017-134390号公报
[专利文献2]日本专利特开2000-089611号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
当在筒状的支撑体的外周面利用浸渍涂布法形成层时,例如在把持支撑体的上方侧的端部的内周面的状态下浸渍于涂布液中。此时,由于支撑体的上方侧的端部由把持构件密封,因此即便将支撑体浸渍于涂布液中,也不易产生涂布液进入至支撑体的内部的情况。但是,有如下情况:涂布液因液压而进入至支撑体的下方侧的端部的内周面,附着于内周面的涂布液进行干燥而形成涂膜。另外,在支撑体的外周面形成层后,即便通过例如内周面的擦拭去除或利用溶剂的内周面的清洗等来尝试去除涂膜,也有如下情况:因支撑体的内周面的状态而涂膜难以去除而残留于内周面的局部。
本发明的目的在于提供一种浸渍涂布用支撑体,与轴方向的一端的内周面的算术平均粗糙度Ra超过0.26μm的情况或所述内周面的最高粗糙度Rz超过2.3μm的情况相比,内周面的涂膜去除性优异。
[解决问题的技术手段]
所述问题可通过以下的手段来解决。
<1>
一种筒状的浸渍涂布用支撑体,其中,轴方向的一端的内周面的算术平均粗糙度Ra为0.26μm以下且所述内周面的最高粗糙度Rz为2.3μm以下。
<2>
根据<1>所述的浸渍涂布用支撑体,其中,所述内周面的算术平均粗糙度Ra为0.20μm以下且所述内周面的最高粗糙度Rz为1.5μm以下。
<3>
根据<2>所述的浸渍涂布用支撑体,其中,所述内周面的算术平均粗糙度Ra为0.15μm以下且所述内周面的最高粗糙度Rz为1.0μm以下。
<4>
根据<1>至<3>中任一项所述的浸渍涂布用支撑体,其中,所述内周面的算术平均粗糙度Ra及所述内周面的最高粗糙度Rz满足下述式(1)。
式(1):7.7×Ra≤Rz≤10.4×Ra
<5>
根据<1>至<4>中任一项所述的浸渍涂布用支撑体,其厚度为0.1mm以上且2.0mm以下。
<6>
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