[发明专利]一种用于OLED的PET基抗静电保护膜及其制备方法有效
| 申请号: | 201910166189.4 | 申请日: | 2019-03-06 |
| 公开(公告)号: | CN109957124B | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
| 发明(设计)人: | 刘兵;谢伟峡 | 申请(专利权)人: | 东莞蓝海芯科技有限公司 |
| 主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08L67/02;C08G63/183;C08K9/06;C08K3/22;C08K7/24 |
| 代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 刘贻盛 |
| 地址: | 523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 oled pet 抗静电 保护膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于OLED的PET基抗静电保护膜,其特征在于,所述用于OLED的PET基抗静电保护膜从上至下依次包括:锑掺杂的二氧化锡纳米粒子改性抗静电层、PET膜、米粒基多孔碳材料改性抗静电层、压敏胶层、锑掺杂的二氧化锡纳米粒子改性抗静电层和离型膜。
2.根据权利要求1所述的一种用于OLED的PET基抗静电保护膜,其特征在于,所述锑掺杂的二氧化锡纳米粒子改性抗静电层的厚度为0.1-3μm,所述PET膜的厚度为25-75μm,所述压敏胶层的厚度为25-30μm,所述离型膜的厚度为20-50μm。
3.权利要求1或者2所述的一种用于OLED的PET基抗静电保护膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
(1)将锑掺杂的二氧化锡置于去离子水中,超声分散后,滴加硅烷偶联剂,高速球磨处理,得到锑掺杂的二氧化锡纳米浆料;
(2)将米粒洗涤干净后,气爆处理,再经高温炭化处理,研磨处理,得到米粒基多孔碳材料;
(3)在惰性氛围下,将对苯二甲酸、催化剂和稳定剂加入乙二醇中,加热加压酯化反应,加入步骤(1)制备的锑掺杂的二氧化锡纳米浆料混合,抽真空继续升温缩聚,得到锑掺杂二氧化锡改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯;
(4)在惰性氛围下,将对苯二甲酸、催化剂和稳定剂加入乙二醇中,加热加压酯化反应,加入步骤(2)制备的米粒基多孔碳材料混合,抽真空继续升温缩聚,得到米粒基多孔碳材料改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯;
(5)将离型膜作为基材,利用旋涂工艺,依次将步骤(3)制备的锑掺杂二氧化锡改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯、压敏胶、步骤(4)制备的米粒基多孔碳材料改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯、PET、步骤(3)制备的锑掺杂二氧化锡改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯旋涂其上,热压,得到用于OLED的PET基抗静电保护膜。
4.根据权利要求3所述的一种用于OLED的PET基抗静电保护膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中,硅烷偶联剂的用量占整个体系质量的0.8-1wt%。
5.根据权利要求3所述的一种用于OLED的PET基抗静电保护膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中,高速球磨处理的球由直径为1mm和3mm钢球构成,两种钢球的总质量比为1:1,转速为3000-5000r/min,时间为2-3d。
6.根据权利要求3所述的一种用于OLED的PET基抗静电保护膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中,锑掺杂的二氧化锡纳米浆料中锑掺杂的二氧化锡的粒径为10-30nm。
7.根据权利要求3所述的一种用于OLED的PET基抗静电保护膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中,气爆的压力为0.85-1MPa,温度为100-110℃。
8.根据权利要求3所述的一种用于OLED的PET基抗静电保护膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)或者(4)中,加热加压酯化的温度为240-250℃,压力为0.25-0.3MPa,时间为1.5-2h。
9.根据权利要求3所述的一种用于OLED的PET基抗静电保护膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)或者(4)中,缩聚的真空度为20-50Pa,温度为280-290℃,时间为3-4h。
10.根据权利要求3所述的一种用于OLED的PET基抗静电保护膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(5)中,旋涂的转速为500-3000r/min,时间为40-60s,热压的温度为60-70℃,压力为0.2-0.3MPa。
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