[发明专利]一种微波分离场重构技术在审
申请号: | 201910164780.6 | 申请日: | 2019-03-05 |
公开(公告)号: | CN110022627A | 公开(公告)日: | 2019-07-16 |
发明(设计)人: | 黄卡玛;张益;朱铧丞;杨阳;吴丽;卢萍 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | H05B6/64 | 分类号: | H05B6/64;H05B6/70 |
代理公司: | 成都环泰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51242 | 代理人: | 赵红欣;李斌 |
地址: | 610041 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单模腔 波导法兰 短路面 分离场 重构 微波 连接端口 一端连接 一端设置 垂直 输入端口 外侧设置 一体设置 隔离度 谐振腔 耦合窗 馈源 | ||
本发明公开了一种微波分离场重构技术,包括单模腔体、第一短路面、第三波导法兰和耦合窗,所述单模腔体的四端开设有连接端口,所述单模腔体设置有第一波导法兰,垂直第一波导法兰的所述单模腔体的一端设置有第二波导法兰,远离单模腔体的所述第一波导法兰的一端连接有第一短路面,远离单模腔体的所述第二波导法兰的一端连接有第二短路面;远离第一波导法兰的所述单模腔体的一端设置有第三波导法兰,所述第三波导法兰和第四波导法兰的一端均开设有输入端口。该一种微波分离场重构技术,设置有单模腔体,单模腔体的一体设置,使单模腔体外侧设置的连接端口的夹角均为90°,进而使单模腔体形成的谐振腔相互垂直,所以使两馈源间的隔离度更好。
技术领域
本发明涉及微波能技术领域,具体为一种微波分离场重构技术。
背景技术
目前,微波能已经广泛地应用于材料处理、化学反应、等离子体、测量与检测等领域,但是,目前的微波系统均难以实现任意比例,方向可控的电场分量和磁场分量。
微波分离场技术目前主要通过单模腔实现。但是单模腔只能在特定的区域实现单一的场中心,即微波电场中心或者磁场中心,在单模腔的分离场中心处理材料的技术也得到了广泛地关注和快速地发展。
微波分离场重构技术都存在这些缺点,难以在较大处理区域内实现微波电场分量和磁场分量的任意比例的调节,且难以实现电场和磁场两馈源输入间的良好隔离度,并且单模腔体之间形成的谐振腔的频率和特性不方便进行调节,因此要对现在的微波分离场重构技术进行改进。
发明内容
本发明的目的在于提供一种微波分离场重构技术,以解决上述背景技术提出的目前市场上的难以实现微波电场分量和磁场分量的任意比例的调节,且电场和磁场两馈源输入间的隔离度不好,并且单模腔体之间形成的谐振腔的频率和特性不方便进行调节的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种微波分离场重构技术,包括单模腔体、第一短路面、第三波导法兰和耦合窗,所述单模腔体的四端开设有连接端口,所述单模腔体设置有第一波导法兰,垂直第一波导法兰的所述单模腔体的一端设置有第二波导法兰,其中;
远离单模腔体的所述第一波导法兰的一端连接有第一短路面,远离单模腔体的所述第二波导法兰的一端连接有第二短路面;
远离第一波导法兰的所述单模腔体的一端设置有第三波导法兰,远离第二波导法兰的所述单模腔体的一端设置有第四波导法兰,所述第三波导法兰和第四波导法兰与单模腔体之间均设置有耦合窗,所述第三波导法兰和第四波导法兰的一端均开设有输入端口。
优选的,所述单模腔体外侧设置的连接端口之间的夹角为90°,所述单模腔体和连接端口之间为一体结构。
优选的,所述第一短路面通过第一波导法兰上设置的环形槽和单模腔体之间构成可拆卸结构。
优选的,所述第三波导法兰的一端外部尺寸和耦合窗的外部尺寸相吻合,所述第三波导法兰和耦合窗之间通过螺栓连接。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:该微波分离场重构技术:
1.设置有输入端口,单模腔体两端分布设置的输入端口,引进电场和磁场,在单模腔体交界处,实现微波电场和磁场的重构,并且重构后的电场强度和磁场强度的比例可以通过两个正交端口的输入功率进行调节;
2.设置有耦合窗,通过将耦合窗安装到不同长度的波导法兰上,通过选择不同长度波导法兰,使耦合窗固定的位置不同,进而调节耦合窗和短路面之间的距离,从而调节单模腔体形成的谐振腔的频率和特性;
3.设置有单模腔体,单模腔体的一体设置,使单模腔体外侧设置的连接端口的夹角均为90°,进而使单模腔体形成的谐振腔相互垂直,所以使两馈源间的隔离度更好。
附图说明
图1为本发明立体结构示意图;
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