[发明专利]卫星式真空薄膜沉积系统

权利要求书

1.一种卫星式真空薄膜沉积系统，由多个操作腔室管路连接组成，其特征在于：所述操作腔室包括一个中转室（2）、两个共蒸发沉积室、三个磁控溅射室以及一个储样室（1），每个所述操作腔室均配备有用于维持腔体真空度的真空泵组；所述中转室（2）位于整个系统的中心位置、其他所述操作腔室等距环绕设置于所述中转室（2）的外周位置，其他所述操作腔室均分别与所述中转室（2）管路连接、并采用闸板阀进行分隔；系统内还设置有样品传递机构，加工样品在所述样品传递机构的作用下、在各操作腔室间传递。

2.根据权利要求1所述的卫星式真空薄膜沉积系统，其特征在于：三个所述磁控溅射室间隔设置，相邻两个所述磁控溅射室之间由其他任一所述操作腔室隔开，所述磁控溅射室包括一个直流溅射室（5）以及两个射频溅射室。

3.根据权利要求2所述的卫星式真空薄膜沉积系统，其特征在于：所述中转室（2）位于整个系统的中心位置、其他所述操作腔室等距环绕设置于所述中转室（2）的外周位置；沿顺时针方向，所述中转室（2）的外周位置分别设置有储样室（1）、第一射频溅射室（6）、第一共蒸发沉积室（3）、直流溅射室（5）、第二共蒸发沉积室（4）、第二射频溅射室（7）。

4.根据权利要求3所述的卫星式真空薄膜沉积系统，其特征在于：所述储样室（1）的两侧各留有一法兰接口，其中一个固定安装有活门观察窗、另一个采用盲板密封；所述储样室（1）上方固定安装有用于储存加工样品的样品架。

5.根据权利要求3所述的卫星式真空薄膜沉积系统，其特征在于：所述中转室（2）内设置有样品传递机构，传送杆固定设置于所述样品传递机构的前端位置，在所述样品传递机构的作用下，所述传送杆可将所述中转室（2）内的加工样品传送至任一操作腔室内。

6.根据权利要求3所述的卫星式真空薄膜沉积系统，其特征在于：两个所述共蒸发沉积室均通过一个闸板阀与所述中转室（2）相连接，在所述共蒸发沉积室的腔体与真空泵组、所述共蒸发沉积室的腔体与所述中转室（2）之间各配备有一个液氮冷阱，所述液氮冷阱的前级设置有用于避免颗粒逸出的隔板。

7.根据权利要求3所述的卫星式真空薄膜沉积系统，其特征在于：所述共蒸发沉积室的顶盖与腔体为可分离式结构、二者间采用金属圈密封；所述共蒸发沉积室的腔体采用双层水冷结构，所述共蒸发沉积室的腔体上设置有多个用于观察传样及各束源炉状态的观察窗以及若干用于设备连接的法兰接口；所述共蒸发沉积室的上方固定设置有可升降、旋转的二维样品台。

8.根据权利要求3所述的卫星式真空薄膜沉积系统，其特征在于：两个所述共蒸发沉积室均配备有一个束流计和一个膜厚仪，两个所述共蒸发沉积室的两个膜厚仪探头共用一个控制器。

9.根据权利要求3所述的卫星式真空薄膜沉积系统，其特征在于：两个所述共蒸发沉积室的底部各配有八个束源炉，分别为一个高温炉，四个中温炉，两个低温炉以及一个Se/S裂解炉；所述共蒸发沉积室的腔体内还设置有与所述束源炉相配套的八个气动挡板，各所述束源炉在腔体内部通过所述气动挡板相隔开。

10.根据权利要求3所述的卫星式真空薄膜沉积系统，其特征在于：所述直流溅射室（5）的腔体与真空泵组采用闸板阀连接，所述直流溅射室（5）的腔体上设置有一个用于观察传样的观察窗以及一个用于设备连接的微漏阀接口，所述直流溅射室（5）的上方固定设置有可升降、旋转的二维样品台。