[发明专利]光学测量装置和光学测量方法

权利要求书

1.一种光学测量装置，其中，

具备：

光源，其输出太赫兹波和与所述太赫兹波同轴且具有与所述太赫兹波不同的波长的同轴光；

强度调制部，其以规定的调制频率对所述太赫兹波和所述同轴光中的至少所述太赫兹波进行强度调制；和

光检测部，其基于所述调制频率而分别对经所述强度调制部作用于被测量物的所述太赫兹波和所述同轴光进行同步检波。

2.根据权利要求1所述的光学测量装置，其中，

所述强度调制部具有切换部，该切换部基于所述调制频率，相对于所述太赫兹波和所述同轴光的光轴切换使所述同轴光的强度衰减的第一衰减区域和使所述太赫兹波的强度衰减的第二衰减区域。

3.根据权利要求1或2所述的光学测量装置，其中，

所述光学测量装置具有聚光透镜，所述聚光透镜将所述太赫兹波和所述同轴光朝向所述强度调制部聚光。

4.根据权利要求1或2所述的光学测量装置，其中，

所述光学测量装置具备参照信号产生部，所述参照信号产生部基于所述调制频率产生相位互相反转的第一参照信号和第二参照信号，

所述光检测部具有：第一锁定检测部，其基于所述第一参照信号锁定检测所述太赫兹波；和第二锁定检测部，其基于所述第二参照信号锁定检测所述同轴光。

5.根据权利要求4所述的光学测量装置，其中，

所述光源以高于所述调制频率的重复频率输出所述太赫兹波和所述同轴光，

所述光检测部具有前段锁定检测部，该前段锁定检测部在所述第一锁定检测部和所述第二锁定检测部的前段基于所述重复频率锁定检测所述太赫兹波和所述同轴光。

6.根据权利要求1所述的光学测量装置，其中，

所述强度调制部具有：

全反射棱镜，其具有所述太赫兹波和所述同轴光的入射面、出射面以及位于所述入射面和所述出射面之间的光路上的全反射面；和

太赫兹波吸收体，其与所述全反射面相对地配置，在将所述全反射面上的所述太赫兹波的倏逝波的穿透深度设为dt，将所述全反射面上的所述同轴光的倏逝波的穿透深度设为dm时，在所述太赫兹波吸收体与所述全反射面的间隔d满足dmd≤dt的范围内，所述太赫兹波吸收体基于所述调制频率进行扫描。

7.根据权利要求6所述的光学测量装置，其中，

所述光源以高于所述调制频率的重复频率输出所述太赫兹波和所述同轴光，所述光学测量装置具备参照信号产生部，所述参照信号产生部基于所述调制频率产生参照信号，

所述光检测部具有：第一锁定检测部，其基于所述参照信号锁定检测所述太赫兹波；和第二锁定检测部，其基于所述重复频率锁定检测所述同轴光。

8.根据权利要求1、2、6以及7中任一项所述的光学测量装置，其中，

所述同轴光是中红外光。

9.根据权利要求3所述的光学测量装置，其中，

所述同轴光是中红外光。

10.根据权利要求4所述的光学测量装置，其中，

所述同轴光是中红外光。

11.根据权利要求5所述的光学测量装置，其中，

所述同轴光是中红外光。

12.一种光学测量方法，其特征在于，

具备：

光输出步骤，输出太赫兹波和与所述太赫兹波同轴且具有与所述太赫兹波不同的波长的同轴光；

强度调制步骤，以规定的调制频率对所述太赫兹波和所述同轴光中的至少所述太赫兹波进行强度调制；和

光检测步骤，其基于所述调制频率而分别对经所述强度调制作用于被测量物的所述太赫兹波和所述同轴光进行同步检波。