[发明专利]聚醚表面活性剂及其合成方法与中性清洗剂

说明书

本发明公开了一种聚醚表面活性剂及其合成方法与中性清洗剂。本发明提供了一种具有新型分子结构的聚醚表面活性剂，当其溶于水时能够有效降低水溶液的表面张力，并且形成的泡沫较少，尤其适用于对玻璃基板进行清洗。本发明的聚醚表面活性剂的合成方法步骤简单易操作，制备成本低。本发明的中性清洗剂含有上述聚醚表面活性剂，当其溶于水中时能够有效降低水溶液的表面张力，形成的泡沫高度较低，不含磷，不含强碱，对玻璃基板进行清洗时能够实现优异的清洗效果，能够满足具有高精度要求的玻璃基板的清洗，具有很好的应用前景。

技术领域

本发明涉及清洗剂技术领域，尤其涉及一种聚醚表面活性剂及其合成方法与中性清洗剂。

背景技术

光学玻璃是光电技术产业的基础和重要组成部分，在上世纪90年代后，随着光学与电子信息科学、新材料科学的不断融合，光学玻璃作为光电子基础材料在光传输、光储存和光电显示等领域的应用越来越广泛，成为光电信息技术和电子显示技术发展的重要基础条件。

平板显示领域包括液晶显示(LCD)、触摸屏(TP)、有机电致发光(OLED)及等离子体(PDP)。以玻璃基板为衬底的制备工艺是目前平板显示领域最重要的技术，因此玻璃基板也是液晶显示器制作工艺中一个非常关键的基体。液晶显示器的制备一般需要经过镀膜、光刻、剥膜、配向膜、固化、配向摩擦、移印、密封、灌晶等步骤，整个制备过程是非常繁杂的。正因如此，玻璃基板在切割、运输、加工等过程中更容易被沾污。玻璃基板上带有的污物有粉末、油污、灰尘、纤维、指印等，通常以指印和灰尘为主。在ITO导电玻璃的制备过程中，玻璃基板镀膜前需要彻底清洗，以保证ITO镀膜的质量；在之后的LCD制程中，镀膜后的ITO玻璃基板也需要再次清洗才能使后续的加工质量得到保障。从一片玻璃到液晶显示器，玻璃基板的清洁度直接影响产品的质量。因此在液晶显示器的制备过程中，玻璃基板的清洗尤为重要，液晶显示器的制备过程中往往设置了很多道清洗工序。

这些现象的出现使很多相关的清洗剂应运而生，并且，随着液晶显示器制备工艺的变革，业内对玻璃基板清洗剂的要求也变得越来越高。传统的玻璃基板清洗剂含有大量的强碱，这种清洗剂的清洗效果好，但是碱性较强，对玻璃基板及膜层存在不同程度的腐蚀。针对这一问题，人们开始减少强碱的使用量以保护被清洗对象，并加入一些表面活性剂进行复配得到碱性更弱的清洗剂。申请公布号为CN104534377A的专利记载了一种光学玻璃清洗剂，该清洗剂的氢氧化钾的质量百分数为10～24％，虽然减少了强碱的使用量，但是该清洗剂的碱度仍然较高，对玻璃也有一定的腐蚀。申请公布号为CN03138910.4、CN103045391A、CN102604751A、CN104673540A和CN103881843A的专利中记载的清洗剂均使用了更少量的强碱，同时也加入了其他碱性物质，但仍然对玻璃基板产生一定的影响。申请公布号为CN101250465A和CN102796625A的专利所公开的清洗剂均未使用强碱，其碱性较低，但是二者均加入了含磷物质，不符合环保要求。申请公布号为CN104357240A的专利中记载了一种电子工业用玻璃清洗剂，清洗剂不含磷及强碱物质，但组分中的弱碱性物质也赋予清洗剂一定的碱度。

总的来说，由于目前LCD朝高精度化方向发展，电极材料、成膜技术不断进步，导电薄膜厚度不断降低，集成电路也变得越来越来精密，一般的碱性清洗剂都会对玻璃基板以及玻璃基板上的物质造成一定的腐蚀。因此，对于具有高精度和高技术含量要求的玻璃基板来说，一般的碱性清洗剂都难以达到其清洗要求。

发明内容

本发明的目的首先在于提供一种聚醚表面活性剂，具有与现有的表面活性剂完全不同的分子结构，当其溶于水时能够有效降低水溶液的表面张力，并且形成的泡沫较少。

本发明的目的还在于提供一种聚醚表面活性剂的合成方法，步骤简单易操作，制备成本低。

本发明的目的还在于提供一种中性清洗剂，能够有效降低水溶液的表面张力，形成的泡沫高度较低，不含磷，不含强碱，对玻璃基板进行清洗时能够实现优异的清洗效果。

为实现以上目的，本发明首先提供一种聚醚表面活性剂，具有如下结构通式：