[发明专利]一种电阻器端电极薄膜化的制备方法在审
申请号: | 201910139498.2 | 申请日: | 2019-02-25 |
公开(公告)号: | CN109841366A | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 罗俊尧;杨曌;李保昌;沓世我;朱泽朝 | 申请(专利权)人: | 广东风华高新科技股份有限公司 |
主分类号: | H01C17/28 | 分类号: | H01C17/28 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 颜希文;麦小婵 |
地址: | 526000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 电阻条 制备 单元网络电阻体 端电极薄膜 网络电阻器 光刻掩膜 网络电阻 电阻器 端电极 侧端 片式网络电阻器 电阻器基板 薄膜电极 尺寸产品 双面镀膜 形成单元 正面电极 重叠放置 凹槽型 薄膜化 有效地 分割 堆叠 基板 掩膜 薄膜 兼容 整齐 印刷 生产 | ||
本发明公开了一种电阻器端电极薄膜化的制备方法,包括:在印刷有标记且已形成单元网络电阻体的网络电阻器基板上制备光刻掩膜;将形成光刻掩膜的电阻器基板分割成数条条状的电阻条,并将单元网络电阻体的两端用于引出网络电阻体的正面电极均引出至数条电阻条的侧端;将不同电阻条上的单元网络电阻体重叠放置,并将数条电阻条的侧端整齐堆叠形成端面;对端面进行双面镀膜处理和去掩膜处理,形成完整的端面薄膜电极;进行二次分割,完成凹槽型网络电阻器薄膜端电极的制备。本发明实施例能够有效地兼容大部分外形尺寸产品,实现凹槽片式网络电阻器产品端电极的薄膜化,进而降低成本,同时有利于实现批量生产。
技术领域
本发明涉及电阻器技术领域,尤其是涉及一种电阻器端电极薄膜化的制备方法。
背景技术
凹槽型片式网络电阻器由于其产品体积小、电性能稳定、可得到不同阻值组合、易于贴装等特点,大量运用于各类电器、个人数据储存、手机等通信产品,同时有效地推动了该类型电子产品的进一步小型化,且由于凹槽型片式网络电阻器的电极间距相对偏小,使其电极安装内应力相对较小,大大减少了基板断裂等问题发生。
现有技术中,凹槽型片式网络电阻器的端电极薄膜化的制备方法主要包括机械掩膜法、印刷油墨法和滚涂或者浸涂银浆法;发明人在实施现有的方法进行电阻器端电极薄膜化的制备时,发现以下问题:
机械掩膜法具有严重的局限性,掩膜容易变形以及镀膜后掩膜表面有一层很难清除的厚金属层,导致后期维护成本高;机械掩膜与产品凹槽位置不可避免地存在一定的间隙,容易导致真空镀膜时出现绕射现象,造成端电极的间隔比预定距离短,甚至出现电极间短路现象,且产品越小其危害越大;而产品凹槽尺寸大小、间隔直接决定了夹具加工成本以及机械加工的精度要求,所以机械掩膜法制约了网络电阻器产品小型化的发展需求。
印刷油墨法,由于一分后产品存在一定的凹凸不平现象,掩膜印刷后油墨容易渗进去端电极位置,造成真空镀膜后无法正常溅射金属,同时也存在制约网络电阻器产品小型化的发展需求,仅适用于大尺寸凹槽网络电阻器的使用,且成品率低、操作难度大、不适合大规模批量化生产。
滚涂或者浸涂银浆法,施加浆料的多少和厚度难以控制,并且浆料容易渗进凹槽内部容易造成短路;虽然该方法在大尺寸网络电阻器端电极制备上容易实现,但目前向网络电阻器小型化方向发展的今天,凹槽大小和深度已经越来越小,上述施加侧面电极的方法已经不适用了,尤其是银浆电极的使用,造成了端电极的成本极高。
因此,现有的用于电阻器的端电极薄膜化制备的机械掩膜法、印刷油墨法和滚涂或者浸涂银浆法不仅生产成本较高、而且难以满足网络电阻器产品小型化的发展需求。
发明内容
本发明实施例提供了一种电阻器端电极薄膜化的制备方法,以解决现有的端电极薄膜化制备方法不仅难以实现小尺寸凹槽片式网络电阻器产品端电极薄膜化而且成本较高的技术问题,从而有效地兼容大部分外形尺寸产品,实现凹槽片式网络电阻器产品端电极的薄膜化,进而降低成本,同时有利于实现批量生产。
为了解决上述技术问题,本发明实施例提供了一种电阻器端电极薄膜化的制备方法,包括以下步骤:
在印刷有标记且已形成单元网络电阻体的网络电阻器基板上制备光刻掩膜,得到形成光刻掩膜的网络电阻器基板;
将所述形成光刻掩膜的电阻器基板分割成数条条状的电阻条,并将单元网络电阻体的两端用于引出网络电阻体的正面电极均引出至数条所述电阻条的侧端;
将不同电阻条上的单元网络电阻体重叠放置,并将数条所述电阻条的侧端整齐堆叠形成端面;
对所述端面进行双面镀膜处理和去掩膜处理,形成完整的端面薄膜电极;
将形成了完整的端面薄膜电极后的条状网络电阻器进行二次分割,完成凹槽型网络电阻器薄膜端电极的制备。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东风华高新科技股份有限公司,未经广东风华高新科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910139498.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。