[发明专利]结构光投影仪和包括结构光投影仪的电子装置有效

专利信息
申请号: 201910135786.0 申请日: 2019-02-21
公开(公告)号: CN110618533B 公开(公告)日: 2023-03-03
发明(设计)人: 权南燮;柳长雨;李旻璟;罗炳勋;韩承勋 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09;G03B15/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李敬文
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 结构 投影仪 包括 电子 装置
【说明书】:

公开了一种结构光投影仪,包括:照明器,被配置为发射照明光;图案掩模,被配置为通过部分地透射照明光来投射结构光;以及透镜,被配置为投射结构光,其中,图案掩模包括:第一透镜失真补偿区域,包括分别具有第一图案宽度的多个不透明的第一遮光图案;以及第二透镜失真补偿区域,围绕第一透镜失真补偿区域,第二透镜失真补偿区域包括分别具有第二图案宽度的多个不透明的第二遮光图案,其中第二图案宽度小于第一图案宽度。

技术领域

本公开的实施例涉及结构光投影仪和包括该结构光投影仪的电子装置,更具体地,涉及具有增加的结构光亮度均匀性的结构光投影仪和包括该结构光投影仪的电子装置。

背景技术

近来,在识别诸如人或物之类的对象时,通过精确的三维(3D)图像正确地识别对象的形状、位置或运动的必要性逐渐增加。为此目的,已经开发了使用结构光的3D感测技术,因此可以进行更加精确的运动识别。

近来,为了使结构光系统与各种电子装置组合,对结构光系统的小型化和高分辨率的要求逐渐增加。为了制造结构光,通常可以使用诸如衍射光学元件(DOE)之类的光学部件。光学部件的光学特性可以是影响设计精确度和制造条件的因素。

发明内容

一个或多个示例实施例提供了一种具有增加的结构光亮度均匀性的结构光投影仪和包括该结构光投影仪的电子装置。

附加方面部分地将在接下来的描述中阐述,且部分地将通过该描述而变得清楚明白,或者可以通过对示例实施例的实践来获知。

根据示例实施例的一个方面,提供了一种结构光投影仪,包括:照明器,被配置为发射照明光;图案掩模,被配置为通过部分地透射所述照明光来生成结构光;以及透镜,被配置为透射所述结构光,其中,所述图案掩模包括第一透镜失真补偿区域,所述第一透镜失真补偿区域包括具有第一图案宽度的多个不透明的第一遮光图案;以及第二透镜失真补偿区域围绕所述第一透镜失真补偿区域,所述第二透镜失真补偿区域包括具有第二图案宽度的多个不透明的第二遮光图案,所述第二图案宽度小于所述第一图案宽度。

所述第一透镜失真补偿区域可以被布置为与所述透镜的中心区域相对。

所述第一透镜失真补偿区域和所述第二透镜失真补偿区域可以以同心圆形状布置,并且所述第二透镜失真补偿区域围绕所述第一透镜失真补偿区域。

所述第一透镜失真补偿区域可以包括被配置为透射所述照明光的第一透光狭缝,所述第一透光狭缝具有第一狭缝宽度,并且所述第二透镜失真补偿区域可以包括被配置为透射所述照明光的第二透光狭缝,所述第二透光狭缝具有第二狭缝宽度。

所述第二透光狭缝的所述第二狭缝宽度可以大于所述第一透光狭缝的所述第一狭缝宽度。

所述第二透镜失真补偿区域中所述第二透光狭缝的面积相对于所述多个第二遮光图案的总面积的比率可以大于所述第一透镜失真补偿区域中所述第一透光狭缝的面积相对于所述多个第一遮光图案的总面积的比率。

所述图案掩模还可以包括围绕所述第二透镜失真补偿区域的第三透镜失真补偿区域,所述第三透镜失真补偿区域包括具有第三图案宽度的多个不透明的第三遮光图案,并且所述第三遮光图案的所述第三图案宽度小于所述第二遮光图案的所述第二图案宽度。

所述第一透镜失真补偿区域、所述第二透镜失真补偿区域和所述第三透镜失真补偿区域可以以同心圆形状顺序地布置。

所述第一透镜失真补偿区域可以包括第一透光狭缝,被配置为透射所述照明光,所述第二透镜失真补偿区域可以包括第二透光狭缝,被配置为透射所述照明光,并且所述第三透镜失真补偿区域可以包括第三透光狭缝,被配置为透射所述照明光。

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