[发明专利]一种螺旋式光阻涂布结构及其制备装置与方法

权利要求书

1.一种螺旋式光阻涂布结构，包括晶圆，其特征在于，所述晶圆表面覆盖设置有处理溶剂层，所述处理溶剂层上方设置有光阻层，所述光阻层呈螺旋形， 螺旋形光阻层包括若干首尾相连的单元段，相邻的外层单元段尾端与内层单元段首端相连，外侧的相邻两个单元段之间的间距大于内侧的相邻两个单元段之间的间距。

2.根据权利要求1所述的一种螺旋式光阻涂布结构，其特征在于，每个所述单元段的首端与尾端位于晶圆的同一直径上。

3.根据权利要求1或2所述的一种螺旋式光阻涂布结构，其特征在于，内侧的所述单元段尾端位于晶圆的中心位置，晶圆直径为195~205mm。

4.根据权利要求1或2所述的一种螺旋式光阻涂布结构，其特征在于，所述处理溶剂层的处理溶剂的组成及含量为：丙二醇甲醚为69~71 wt %；丙二醇单甲醚乙酸脂为29~31 wt%。

5.根据权利要求1-4任一项所述的一种螺旋式光阻涂布结构的制备装置，其特征在于，包括机身，机身上侧可转动地设置有圆形旋转台，机身内部设置有旋转驱动机构，所述旋转台上设置有若干真空吸盘，所述旋转台上方设置有移动涂胶机构，所述移动涂胶机构包括固定顶架，固定顶架上设置有至少2条导轨，其中1条导轨侧面轴向设置有齿条，导轨下侧活动连接有移动座，移动座上对应旋转台设置有喷胶手臂，喷胶手臂的喷出口轴线与旋转台表面垂直，移动座上对应齿条一体设置有电机座，电机座上安装有电机一，电机一的输出轴向上穿过电机座并传动连接有齿轮，齿轮与所述齿条相啮合。

6.根据权利要求5所述的一种螺旋式光阻涂布结构的制备装置，其特征在于，所述旋转驱动机构包括电机二，电机二竖直设置，电机二的输出端经减速器与旋转台的转轴传动连接。

7.根据权利要求1-4任一项所述的一种螺旋式光阻涂布结构的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

先将晶圆放置在旋转台中心位置，真空吸盘将晶圆吸紧，喷胶手臂再移动到晶圆中心上方1~2cm处， 喷胶手臂的喷出口横截面积为8~12mm²，喷胶手臂在晶圆上喷上处理溶剂，同时旋转台以190~210RPM的转速转动50~60S，使得处理溶剂在晶圆表面均匀铺开形成10~50μm厚的处理溶剂层；控制旋转台以90~110RPM的转速保持转动，喷胶手臂移动至距离晶圆边缘20~40mm处开始喷光阻，先在初始的前2S内以14~16mm/S的速度径向朝晶圆中心移动，然后在后2S内以11~14mm/S的速度径向朝晶圆中心移动，最后以6~9mm/S的速度径向朝晶圆中心移动，直到喷胶手臂移动到晶圆中心上方停止喷光阻。

8.根据权利要求7所述的一种螺旋式光阻涂布结构的制备方法，其特征在于，喷完光阻后，旋转台先以90~110RPM的转速转动18~22S，再以700~900RPM的转速转动26~34S，最后以1900~2100RPM的转速转动1~2S，使得晶圆上的螺旋形光阻层均匀铺开。