[发明专利]一种等离子体真空放电系统有效
申请号: | 201910121079.6 | 申请日: | 2019-02-19 |
公开(公告)号: | CN111586956B | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 刘永新;苏子轩;张莹莹;王友年 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;H01J37/32 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 杜阳阳 |
地址: | 116000 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 等离子体 真空 放电 系统 | ||
1.一种等离子体真空放电系统,其特征在于,包括真空腔体、上电极和下电极,所述下电极位于所述真空腔体内;所述下电极为上方开口的中空圆柱体;所述下电极的底部均匀开设有多个气孔;所述上电极的下部容纳在所述下电极内,所述上电极的上部向上延伸至所述真空腔体外部;在所述上电极的下部周围沿周向环绕多个电极环;多个所述电极环沿径向从内向外依次设置;每个电极环均与相邻的电极环紧密贴合,最外侧的电极环与所述下电极的内壁贴合,最内侧的电极环与所述上电极的下部贴合;多个所述电极环中的一个电极环的材质为聚四氟乙烯,剩余电极环的材质为金属;所述系统通过将任意一个电极环换为同样形状和大小的聚四氟乙烯材质的电极环即可实现上下电极面积比的调节。
2.根据权利要求1所述的等离子体真空放电系统,其特征在于,所述上电极的下部的下表面具有向上凹陷的凹槽,所述凹槽内从上到下依次水平设置有多个喷淋板;位于最上方的喷淋板与进气通道连通;所述进气通道位于所述上电极内部且延伸至所述真空腔体外;多个所述喷淋板之间存在间隙;每个所述电极环均为中空结构;在所述每个所述电极环上正对喷淋板之间的间隙开设有气孔;每个所述电极环的底部均开设有气孔;每个所述喷淋板上均匀开设有多个通孔。
3.根据权利要求1所述的等离子体真空放电系统,其特征在于,所述下电极的底部中央与导电杆的顶端固定连接;所述导电杆的底端向下延伸至所述真空腔体外部。
4.根据权利要求1所述的等离子体真空放电系统,其特征在于,在所述上电极与所述真空腔体之间设置有上电极绝缘层。
5.根据权利要求3所述的等离子体真空放电系统,其特征在于,在所述导电杆与所述真空腔体之间设置有下电极绝缘层。
6.根据权利要求4所述的等离子体真空放电系统,其特征在于,在所述上电极绝缘层与所述真空腔体之间设置有上电极屏蔽罩。
7.根据权利要求1所述的等离子体真空放电系统,其特征在于,在所述下电极的侧壁上开设有多个长方形窗口。
8.根据权利要求2所述的等离子体真空放电系统,其特征在于,所述进气通道与位于所述真空腔体外部的进气管连通;所述进气管的进气口处连接有射频电路;所述射 频电路包括射频源、隔直电容和直流源;
所述射频源的输出端与所述隔直电容的一端连接,所述隔直电容的另一端连接到所述进气管的进气口;所述直流源的正极接地,负极连接到所述进气管的进气口。
9.根据权利要求3所述的等离子体真空放电系统,其特征在于,所述导电杆延伸至所述真空腔体外部的部分套设有波纹管;所述波纹管固定在所述真空腔体上。
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